公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務！

尺寸漲縮原因分析

膠片在光繪前沒有經(jīng)過預置

由于膠片制造時無法預先控制膠片中的濕度與每個生產(chǎn)車間的濕度一致，因此使用之前應先使其與工作環(huán)境達到平衡的狀況。建議預置時間為12小時，預置時必須打開膠片的內(nèi)包裝，使其與外界的空氣充分接觸。

光刻掩膜版（又稱光罩，英文為Mask Reticle），簡稱掩膜版，是微納加工技術常用的光刻工藝所使用的圖形母版。由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成掩膜圖形結(jié)構，再通過曝光過程將圖形信息轉(zhuǎn)移到產(chǎn)品基片上。

烤版時還要注意：①烤版箱內(nèi)的紅外燈管一定要橫向排列，如縱向排列，往往導致印版瓦楞狀變形而影響使用。②烤版膠濃度要合適，如烤版膠太稠，烤版效果和上墨效果也不會令人滿意；如烤版膠太稀，烤出的版容易上臟。③烤版溫度不能過高，溫度過高也會導致鋁版基韌化和發(fā)軟，樹脂層焦化，影響耐印力。烤版時間太長易導致印版上臟，烤版時間太短達不到烤版的效果。④一般情況下，陽圖PS版顯影液(原液)的顯影能力為10m2/L?？瓷先ブ瓢婀に嚥皇翘珡碗s，但要想制作出合格的印版，確實需要操作人員用心曬版，用心加工印版。

掩模板是根據(jù)放大了的原圖制備的帶有透明窗口的模板。例如，可以用平整的玻璃板，涂覆上金屬鉻薄膜，通過類似照相制版的方法制備而成。由于下游應用領域廠商自建光刻掩膜版生產(chǎn)線的投入產(chǎn)出比很低，且光刻掩膜版行業(yè)具有一定的技術壁壘，所以光刻掩膜版都是由專業(yè)的生產(chǎn)商進行生產(chǎn)。具有微納圖形結(jié)構的掩模板通常使用電子束光刻機直接制備，其制作過程就是典型的光刻工藝過程，包括金屬各層沉積、涂膠、電子束光刻、顯影、鉻層腐蝕及去膠等過程。