充氣方法可選用質量流量計、浮子流量計 針閥及相應的充氣閥門，并可挑選多路充氣管路及相應流量參數。 真空鍍膜設備依據需烘烤的結構提出烘烤溫度、材質以及所需配備相應外表丈量。 依據設備使用特性，可挑選手動、半自動、全自動或其組合的控制方法。 完善的報警體系，對真空室體、分散泵斷相、缺水、氣壓、電源負載的過壓、過流等異常情況進行聲光報警。

隨著科技的進步，一些電子工業(yè)及民用包裝產業(yè)的的飛速發(fā)展，真空電鍍工藝也將會飛速發(fā)展起來。真空電鍍工藝主要是通過加熱器把膜材蒸發(fā)、蒸發(fā)的膜材原子或分子遷移吸附到基體表面的成膜工藝，因此根據膜材的種類不同大體可分為金屬膜的真空電鍍、合金膜的真空電鍍及化合物的真空電鍍這三大類。真空電鍍(PVD)是一種將塑料表面類金屬化的加工方式。塑料表面上的類金屬具有金屬導電熱傳的特性，但卻不具有金屬的剛性，同時此加工方式并不會改變塑料原有的特性，所以在應用的領域上相當的廣泛。

　　在電池的陰極和陽極浸沒在溶液中溶解的金屬鹽(如離子的金屬鍍)和其他離子的行為答應經過電路的電流。直流電流供應到陽極，氧化的金屬原子溶解于電解質溶液。溶解的金屬離子在陰極復原，鍍金屬上的項目。經過電路的電流，陽極溶解速度等于速度在陰極鍍。

　　電鍍的比如：

　　一個簡略的比如是電鍍工藝電鍍銅的鍍金屬(銅)作為陽極和電解質溶液中的金屬離子(銅鍍二在這個比如中)。銅進入溶液，在陽極是鍍在陰極。穩(wěn)定濃度的Cu二堅持周圍的電極的電解質溶液：

     陽極: Cu(s) → Cu2 (aq) 2 e-

　　陰極: Cu2 (aq) 2 e- → Cu(s)