真空腔體

一般真空腔體內部是規(guī)則的長方體,用一面加熱進行熱輻射的方式熱傳導不能合理涵蓋整個腔體的內部空間,所以效果不是很理想,.經過試驗論證,采取在真空腔體內正上方、正下方、左側面、右側面各安裝一套加熱板加熱的方法,采用面對面熱輻射方式對腔體內部進行加熱.

由于設備在真空狀態(tài)下采用了上,下,左,右四面四路加熱的方法,比單純一路加熱就要復雜多了,這也是溫度控制的難點.因此采用PID來進行溫度控制調節(jié),控溫熱偶設置在腔體內部,這樣可以更好地控制真空腔體內的溫度.

真空技術主要包括真空獲得、真空測量、真空檢漏和真空應用四個方面.在真空技術發(fā)展中,這四個方面的技術是相互促進的.

隨著真空獲得技術的發(fā)展,真空應用日漸擴大到工業(yè)和科學研究的各個方面.真空應用是指利用稀薄氣體的物理環(huán)境完成某些特定任務.有些是利用這種環(huán)境制造產品或設備,如燈泡、電子管和等. 這些產品在使用期間始終保持真空,而另一些則只是把真空當作生產中的一個步驟,產品在大氣環(huán)境下使用,如真空鍍膜、真空干燥和真空浸漬等.

真空的應用范圍極廣,主要分為低真空、中真空、高真空和超高真空應用.

真空腔體加工檢漏的辦法

一、真空封泥檢測法

用真空泥封住的漏點，此時要注意觀察真空度的改變，假如貼上真空泥之后真空度上升較快，拿掉之后又有了顯著的下降，這說明就是一個漏點哦。然而，這個辦法在實際檢測頂用的比較少

二、真空計檢漏法

部分真空計的讀數與氣體種類有關，例如電離真空計，熱偶計。用合適的氣體或許液體做示漏物質，這些真空計就成了探測器，一般鍍膜機上都會有真空計，在實際使用中也是比較常用的檢漏辦法。真空腔體真空腔體是內部為真空狀態(tài)的容器,很多先進的技術工藝均需要在真空或惰性氣體保護條件下完成,真空腔體是這些工藝過程中重要的基礎設備。熱偶計的示漏物質有二氧化碳，丁烷，酒精等，熱偶計的反響比較慢，要仔細觀察。用于電離計的示漏物質主要有氦，，酒精等。