卷繞真空鍍膜機結(jié)構(gòu)設(shè)計應(yīng)該注意的幾個問題

真空鍍膜機使用的行業(yè)不一樣，它的機型是不一樣的，那么它的結(jié)構(gòu)設(shè)計也是有很大的差別。在設(shè)計真空鍍膜機的時，我們都是要考慮到很多因素，比如：要鍍的物件大小，使用的材質(zhì)，以及它的熱點，和其他的一些細節(jié)注意事項等，都會影響真空鍍膜機的結(jié)構(gòu)設(shè)計，那么卷繞真空鍍膜機結(jié)構(gòu)設(shè)計應(yīng)該注意那幾個問題呢？下面至成真空小編，為大家詳細介紹一下：

1、提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運動的線速度，它是卷繞機構(gòu)的一個主要技術(shù)指櫟。國內(nèi)早期鍍膜機卷繞速度只有10m/min，現(xiàn)在也只有80m/min～120m/min，在國外日本的EW系列產(chǎn)品中，其卷繞速度已達到300m/min，德國L．H公司生產(chǎn)的鍍膜機已達到600m/min，可見隨著鍍膜技術(shù)的發(fā)展，卷繞速度有待提高。

2、帶狀基材的線速恒定問題。這一問題也很重要，因為只有卷繞機構(gòu)保證帶狀基材的線速恒定，才能使基材上鍍層厚度均勻。這一點對制備帶狀基材的功能性膜（如電容器膜）尤為重要。

3、帶狀基材的跑偏和起褶問題。隨著卷繞速度的提高，帶狀基材在卷繞鍍膜過程中，起褶和發(fā)生偏斜，嚴重時會造成基材的斷裂，使生產(chǎn)中斷，既影響生產(chǎn)效率，又浪費材料。因此，在卷繞機構(gòu)的設(shè)計中應(yīng)充分考慮這一問題。

卷繞鍍膜機真空抽氣系統(tǒng)分上室下室兩組，下室為蒸鍍室，要求真空度高，主泵多為油擴散泵。上室為基材卷繞室，要求真空度較低，為羅茨泵機組或擴散泵一羅茨泵一機械泵組。一般蒸鍍室要達到的真空度為1x10^-3Pa—2×10^-3Pa，而工作壓力為1×10^-2Pa—2×10^-2Pa，而卷繞室真空度通常較蒸鍍室低一個數(shù)量級。有時卷繞鍍膜機以增擴泵（油擴散泵的一種）為主泵，它的極限壓力雖然不及油擴散泵，但其抽速范圍向高壓方向延伸一個數(shù)量級，非常適宜此類蒸發(fā)的鍍膜過程。

電子束蒸發(fā)真空鍍膜機應(yīng)用及特點

真空鍍膜機已經(jīng)廣泛運用到我們的生活中，以前物件鍍上一層一層的膜是為了延長壽命，防止腐蝕。然而隨著人民的生活質(zhì)量不斷的提升，對于物件外表的膜層不僅僅只是停留在延長使用壽命上，同時更多關(guān)注物件的外觀是否絢麗美觀。真空鍍膜機在日常生活中運用無處不在，使用的行業(yè)不一樣，鍍的產(chǎn)品不一樣，鍍膜機的型號是不相同的。今天至成真空小編為大家介紹一下電子束蒸發(fā)真空鍍膜機應(yīng)用及特點。

首先簡單為大家介紹一下蒸發(fā)系列卷繞真空鍍膜機，它主要用于在塑料、布、紙、金屬箔等帶狀材料表面真空蒸鍍金屬膜。產(chǎn)品廣泛用于包裝、印刷、防偽、紡織、電子工業(yè)等領(lǐng)域。本系列設(shè)備具有運行平穩(wěn)、收放鍍膜平齊、膜層均勻、生產(chǎn)周期短、能耗低、操作維護方便、性能穩(wěn)定等特點

電子束蒸發(fā)真空鍍膜機真空鍍膜是將固體材料置于真空室內(nèi)，在真空條件下，將固體材料加熱蒸發(fā)，蒸發(fā)出來的原子或分子能自由地彌布到容器的器壁上。當(dāng)把一些加工好的基板材料放在其中時，蒸發(fā)出來的原子或分子就會吸附在基板上逐漸形成一層薄膜。真空鍍膜有兩種方法,一是蒸發(fā),一是濺射。在真空中把制作薄膜的材料加熱蒸發(fā)，使其淀積在適當(dāng)?shù)谋砻嫔稀?

那么電子束蒸發(fā)鍍膜機的結(jié)構(gòu)特點有哪些呢？

（1）卷饒系統(tǒng)采用支流或交流變頻調(diào)速，具有運行平穩(wěn)、速度高、對原卷材不劃傷、不折皺，收卷端面征集等特點；

（2）張力控制采用進口數(shù)字張力控制系統(tǒng)，具有張力、線速度恒定，動作快速的特點；

（3）各組送絲由微機電機獨立控制，可總調(diào)或單獨調(diào)速，并有速度顯示；

（4）真空系統(tǒng)配置精良，抽氣速度快，采用PLC控制；

（5）配備大功率電源，鍍膜，膜層均勻性好。

專業(yè)磁控濺射真空鍍膜機設(shè)備用途：

專業(yè)磁控濺射真空鍍膜機設(shè)備用途：主要用于太陽能電池鈣鈦礦、OLED和PLED、半導(dǎo)體制備等實驗研究與應(yīng)用。磁控濺射包括很多種類。各有不同工作原理和應(yīng)用對象。專業(yè)磁控濺射生產(chǎn)但有一共同點：利用磁場與電場交互作用，使電子在靶表面附近成螺旋狀運行，從而增大電子撞擊Ar氣產(chǎn)生離子的概率。所產(chǎn)生的離子在電場作用下撞向靶面從而濺射出靶材。靶源分平衡和非平衡式，平衡式靶源鍍膜均勻，非平衡式靶源鍍膜膜層和基體結(jié)合力強。平衡靶源多用于半導(dǎo)體光學(xué)膜，非平衡多用于磨損裝飾膜。磁控陰極按照磁場位形分布不同，大致可分為平衡態(tài)和非平衡磁控陰極。專業(yè)磁控濺射生產(chǎn)平衡態(tài)磁控陰極內(nèi)外磁鋼的磁通量大致相等，兩極磁力線閉合于靶面，很好地將電子/等離子體約束在靶面附近，增加碰撞幾率，提高了離化效率，因而在較低的工作氣壓和電壓下就能起輝并維持輝光放電。

新型磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝

磁控濺射真空鍍膜機鍍膜工藝在鍍膜行業(yè)無處不在，只要說到鍍膜技術(shù)，大家都會立刻想到磁控鍍膜工藝，磁控濺射真空鍍膜機也受到了各大廠家的追捧，磁控濺射鍍膜工藝更是受到大家的喜愛，今天至成小編為大家介紹一下磁控濺射鍍膜機鍍膜工藝。

其實從一般的金屬靶材濺射、反應(yīng)濺射、偏壓濺射等,伴隨著工業(yè)需求及新型磁控濺射技術(shù)的出現(xiàn),低壓濺射、高速沉積、自支撐濺射沉積、多重表面工程以及脈沖濺射等新型工藝成為目前該領(lǐng)域的發(fā)展趨勢。低壓濺射的關(guān)鍵問題是在低壓(一般是指<011Pa)下,電子與氣體原子的碰撞幾率降低,在常規(guī)磁控濺射技術(shù)中不足以維持靶材表面的輝光放電,導(dǎo)致濺射沉積無法繼續(xù)進行。通過優(yōu)化磁場設(shè)計,使得電子空間運動距離延長,非平衡磁控濺射技術(shù)可以實現(xiàn)在10-2Pa等級的真空下進行濺射沉積。另外,通過外加電磁場約束電子運動可以實現(xiàn)更低壓強下的濺射沉積。進行高速沉積可以極大的提高工作效率、減少工作氣體消耗以及獲得新型膜層。實現(xiàn)高速沉積主要需要解決的問題是在提高靶材電流密度的同時,不會產(chǎn)生弧光放電;由于功率密度的提高,靶材、襯底的冷卻能力需要相應(yīng)提高等。目前,已經(jīng)實現(xiàn)了靶材功率密度超過100W/cm2,沉積速率超過1μm/min。