化學拋光中往往同時產(chǎn)生氫氣，這是在拋光具有氫脆敏感性材料時必須注意的問題。另外拋光液溫度高達100~200CC時，還會發(fā)生退火作用。為了把氫脆和退火作用的影響降到，就必須在適溫度范圍內(nèi)選擇盡可能短的拋光時間。

化學拋光與機械研磨拋光有本質(zhì)上的不同。

化學拋光是將被研磨面上的微小凸部與凹部相比較的情況下使其凸部優(yōu)先溶解，改善金屬表面粗糙度，獲得平滑光亮表面的過程。

化學拋光工藝有哪些特點？

首先，化學拋光設(shè)備簡單，無需電源設(shè)備。其次，化學拋光工藝不受制件外形尺寸限制，拋光速度快，生產(chǎn)。因為這些原因，化學拋光工藝也使得加工成本低廉。

化學拋光的優(yōu)點是：不需外加電源,可以處理形狀更為復雜的零件,生產(chǎn)等.但是化學拋光的表面質(zhì)量,一般略低于電解拋光,溶液的調(diào)整和再生也比較困難,往往拋光過程中會析出氧化氮等有害氣體。

化學拋光是一種特殊條件下的化學腐蝕，它是通過控制金屬表面選擇性的溶解而使金屬表面達到整平和光亮的金屬加工過程。所謂選擇性的溶解，是指被拋光面的金相學的、結(jié)晶學的以及幾何學的不均勻性受到不均勻的溶解，凸出部溶解多，而凹谷處溶解很少，結(jié)果表面就由凹凸不平而變得平整光亮。

為了進行化學拋光，必須使零件表面的凸部比凹部優(yōu)先溶解，因此應(yīng)將化學拋光的作用分為兩個階段來認識。