真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學研究和實際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù)，是表面工程技術(shù)領域的重要組成部分。真空鍍膜技術(shù)是利用物理、化學手段將固體表面涂覆一層特殊性能的鍍膜，從而使固體表面具有耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、、防輻射、導電、導磁、絕緣和裝飾等許多優(yōu)于固體材料本身的優(yōu)越性能，達到提高產(chǎn)品質(zhì)量、延長產(chǎn)品壽命、節(jié)約能源和獲得顯著技術(shù)經(jīng)濟效益的作用。

光學鍍膜

無論是無機材料還是有機材料制成的眼鏡片，在日常的使用中，由于與灰塵或砂礫(氧化硅)的摩擦都會造成鏡片磨損，在鏡片表面產(chǎn)生劃痕。與玻璃片相比，有機材料制成的硬性度比較低，更易產(chǎn)生劃痕。通過顯微鏡，我們可以觀察到鏡片表面的劃痕主要分為二種，一是由于砂礫產(chǎn)生的劃痕，淺而細小，戴鏡者不容易察覺;另一種是由較大砂礫產(chǎn)生的劃痕，深且周邊粗糙，處于中心區(qū)域則會影響視力。

真空鍍膜廠家依據(jù)技術(shù)請求挑選鍍制方法及方法，如電阻蒸騰(鎢絲、鉬舟、石墨舟)磁控源(同軸圓柱型磁控源、園柱型平面磁控源、矩型平面磁控源等)以靶材原料及尺度多弧源(Ф60，Ф80直徑靶材，氣動、電動的引弧等)，真空丈量可挑選數(shù)字式智能真空計及其優(yōu)異的丈量規(guī)管，及其它丈量儀器，如主動壓強操控儀等。膜厚丈量可選用方塊電阻丈量儀，透過率計等。充氣方法可選用質(zhì)量流量計、浮子流量計 針閥及相應的充氣閥門，并可挑選多路充氣管路及相應流量參數(shù)。

PVD真空鍍膜加工在模具行業(yè)的應用      

涂層設備主要應用于工模具制造行業(yè)、太陽能利用和轉(zhuǎn)化行業(yè)、LED光源和半導體行業(yè)；涂層服務的涂層種類包括類金剛石涂層（DLC）和其它金屬陶瓷類涂層（CrN，TiN等），廣泛應用于模具、金屬切削刀具和有耐磨要求的零件上。

PVD真空鍍膜是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù),在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。

真空鍍膜是一種產(chǎn)生薄膜材料的技術(shù)。在真空室內(nèi)材料的原子從加熱源離析出來打到被鍍物體的表面上。此項技術(shù)用于生產(chǎn)激光唱片(光盤)上的鋁鍍膜和由掩膜在印刷電路板上鍍金屬膜。在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。