公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

光學(xué)掩模板在薄膜、塑料或玻璃基體材料上制作各種功能圖形并，以便用于光致抗蝕劑涂層選擇性曝光的一種結(jié)構(gòu)。②烤版膠濃度要合適，如烤版膠太稠，烤版效果和上墨效果也不會令人滿意。掩膜版應(yīng)用十分廣泛，在涉及光刻工藝的領(lǐng)域都需要使用掩膜版，如IC（Integrated Circuit，集成電路）、FPD（Flat Panel Display，平板顯示器）、PCB（Printed Circuit Boards，印刷電路板）、MEMS（Micro Electro Mechanical Systems，微機電系統(tǒng)）等。

刻蝕或離子注入完成后，將進(jìn)行光刻的后一步，即將光刻膠去除，以方便進(jìn)行半導(dǎo)體器件制造的其他步驟。掩膜板是光刻圖形的基準(zhǔn)和藍(lán)本，掩膜板上:的任何缺陷都會對終圖形精度產(chǎn)生嚴(yán)重的影響。通常，半導(dǎo)體器件制造整個過程中，會進(jìn)行很多次光刻流程。生產(chǎn)復(fù)雜集成電路的工藝過程中可能需要進(jìn)行多達(dá)50步光刻，而生產(chǎn)薄膜所需的光刻次數(shù)會少一些。

硬刮和軟刮：凹版印刷中的不同裝法在印刷中所產(chǎn)生的效果是不樣的。硬刮是指離支撐刀片較短，效果反差大，易磨損版輥，對解決版面不干凈會有一點作用。軟刮是指離支撐刀片距離較長點，效果是色調(diào)平緩，易產(chǎn)生灰霧。對于版上淺網(wǎng)部分的轉(zhuǎn)移會有1定的幫助。

光刻掩膜版材質(zhì)可分為石英掩膜版、蘇打掩膜版和其他（包含凸版、菲林）等。其中石英掩膜版和蘇打掩膜版為高校和科研院所光刻時所常用的光刻掩膜版。

石英掩膜版

使用石英玻璃為基板材料，光學(xué)透過率高，熱膨脹率低，相比蘇打玻璃更為平整和耐磨，使用壽命長，主要用于掩膜版

使用蘇打玻璃作為基板材料，光學(xué)透過率較高，熱膨脹率相對高于石英玻璃，平整度和耐磨性相對弱于石英玻璃，主要用于中低精度掩膜版