公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

掩膜（MASK）：全稱(chēng)單片機(jī)掩膜，是指程序數(shù)據(jù)已經(jīng)做成光刻版，在單片機(jī)生產(chǎn)的過(guò)程中把程序做進(jìn)去。優(yōu)點(diǎn)是：程序可靠、成本低。缺點(diǎn)：批量要求大，每次修改程序就需要重新做光刻板，不同程序不能同時(shí)生產(chǎn)，供貨周期長(zhǎng)。

一種具有保護(hù)環(huán)的光刻板，包括光刻板本體和設(shè)置在光刻板本體外圈的保護(hù)環(huán)，所述保護(hù)環(huán)緊密?chē)诠饪贪灞倔w的外部邊緣處并將內(nèi)部的光刻板本體圍起，所述保護(hù)環(huán)上具有圓型開(kāi)孔、直角型開(kāi)孔與直線型開(kāi)孔，所述直角型開(kāi)孔設(shè)置在光刻板本體的轉(zhuǎn)角處，所述直線型開(kāi)孔設(shè)置在光刻板本體的水平邊緣與豎直邊緣，所述圓型開(kāi)孔設(shè)置在直角型開(kāi)孔與直線型開(kāi)孔的連接處。另外，不能用手觸摸掩膜板:灰塵顆粒，在掩膜板盒打開(kāi)的情況下，不準(zhǔn)進(jìn)出掩膜板室(MaskRoom)，在存取掩膜板時(shí)室內(nèi)保持2人。

掩膜版：通俗點(diǎn)理解，相當(dāng)于過(guò)去用膠片沖洗照片時(shí)的底片。底片如果精度不夠，是洗不出來(lái)照片的。光刻機(jī)施工前，要根據(jù)設(shè)計(jì)好的芯片電路圖制作掩膜板。掩膜板材質(zhì)是石英玻璃，玻璃上有金屬鉻和感光膠。通過(guò)激光在金屬鉻上繪制電路圖。精度要求非常高。

　　透鏡：用透鏡的光學(xué)原理，將掩膜版上的電路圖按比例縮小，再用光源映射的硅片上。光在多次投射中會(huì)產(chǎn)生光學(xué)誤差。要控制這個(gè)誤差。精度要求很高。

　　就是測(cè)量臺(tái)移動(dòng)的控制器，也是納米級(jí)精度，要求超高。

接觸光刻技術(shù)中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實(shí)際掩模的尺寸相同。i在襯底上形成的圖案是1∶1，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線；另一方面，縮微技術(shù)中使用的掩模具有表面特征圖案的實(shí)際尺寸。i在襯底上形成的圖案的幾次通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)投影模式曝光i光明。干版涂附的乳膠，硬度小且易吸附灰塵，不過(guò)干版還有包膜和超微顆粒干版，其中后者可以應(yīng)用于芯片制造。