依據(jù)van Deemeter 方程，隨著顆粒度的不斷降低，渦流擴散減小，分子傳質阻力減小，相應的理論塔板高度( HETP) 也下降，得到的柱效也更高，由于壓力與填料粒徑平方成反比，因此隨著粒徑減小壓力會急劇增加。從液相色譜出現(xiàn)至今，硅膠粒徑從100 μm左右降低到3-10 μm，再減小到亞2μm，其柱效由每米數(shù)十塔板數(shù)提高到3.2x105塔板數(shù)每米。液相色譜也從工業(yè)用常壓制備色譜發(fā)展到分析檢測用高壓HPLC再到目前超高壓UPLC。工業(yè)分離純化的粒徑在10微米以上，而常規(guī)HPLC填料粒徑在3-5微米，UPLC填料顆粒小于2μm。因此伴隨著越來越精細的硅膠色譜填料的使用，HPLC分離分析性能也越來越好。亞2μm的硅膠填料的使用使得HPLC的分辨率，檢測速度及柱效達到前l所未有的水平，同時也引起了色譜分析儀器的變革。

單分散是從英文Monodisperse  翻譯過來的，在英文里Monodisperse means particles have same size, shape or mass. 因此所謂單分散是指導顆粒具有相同的尺寸，形態(tài)和質量。單分散色譜填料是通常指微球的粒徑或直徑大小呈均一分布。單分散硅膠色譜填料一直是該領域科學家努力的目標，但單分散硅膠色譜填料產(chǎn)業(yè)化技術難度大，一直沒有突破。蘇州納微科技有限公司作為一家國內企業(yè)，成為世界上第l一家突破單分散多孔二氧化硅規(guī)?；a(chǎn)技術難題，成為全球第l一家可以大規(guī)模生產(chǎn)單分散硅膠色譜填料的公司。該技術經(jīng)過十多年持續(xù)不斷的跨領域的技術，可以精l確控制硅膠色譜填料的粒徑大小和粒徑分布。合成后不需要篩分工藝，一次成型就可滿足變異系數(shù)CV<3%，而現(xiàn)有市場的球形硅膠產(chǎn)品即使是經(jīng)過復雜篩分工藝，其CV>10% （CV越小，粒徑分布越窄）。納微單分散多孔球型硅膠制備技術使世界硅膠色譜填料制備技術的發(fā)展跨上一個新的臺階，代表了第三代硅膠色譜填料制備技術。

用于色譜分離和分析的硅膠色譜填料性能要求高，需要控制其粒徑大小、均勻性、形貌、孔徑結構、比表面積、純度及功能基團等眾多參數(shù)，其中任何一個參數(shù)沒有控制好，都會影響色譜分離性能。另外色譜填料的生產(chǎn)還要保證批次的穩(wěn)定性和重復性，即使性能再好的產(chǎn)品，如果無法保證批次穩(wěn)定性，也就無法使用，無法商業(yè)化。因此色譜填料的制備，尤其是批量生產(chǎn)技術壁壘高，難度大，全球只有少數(shù)幾家公司包括瑞典的Kromasil，日本Daiso，F(xiàn)uji及AGC具備大規(guī)模生產(chǎn)高l性能硅膠色譜填料基球的能力。分析型色譜柱及填料生產(chǎn)廠家比制備的多得多，主要有美國Waters、Agilent、 Phenomenex、Thermo、Supelco和日本YMC、Shodex，資l深堂等多家公司。