中頻磁控濺射鍍膜設(shè)備有哪些特點(diǎn)

中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜。中頻磁控鍍膜設(shè)備濺射技術(shù)已漸成為濺射鍍膜的主流技術(shù)，它優(yōu)于直流磁控濺射鍍膜的特點(diǎn)是克服了陽(yáng)極消失現(xiàn)象；減弱或消除靶的異常弧光放電。因此，提高了濺射過(guò)程的工藝穩(wěn)定性，同時(shí)，提高了介質(zhì)膜的沉積速率數(shù)倍。

新研發(fā)平面靶，圓柱靶，孿生靶，對(duì)靶等多種形式的中頻濺射靶結(jié)構(gòu)和布局。該類(lèi)設(shè)備廣泛應(yīng)用于表殼、表帶、手機(jī)殼、高爾夫球具、五金、餐具等鍍TiN、TiC、TICN、TiAIN、CrN等各種裝飾鍍層。

真空磁控濺射鍍膜機(jī)用戶(hù)設(shè)置具體設(shè)置

按“用戶(hù)設(shè)置”鈕進(jìn)入真空磁控濺射鍍膜機(jī)的用戶(hù)設(shè)置界面，里面的數(shù)值除了時(shí)間參數(shù)可以根據(jù)機(jī)器運(yùn)行情況作適當(dāng)調(diào)整外，其余參數(shù)經(jīng)調(diào)試設(shè)定后一般不作修改。各參數(shù)功能如下：

主輥加速時(shí)間設(shè)定：用于設(shè)定主輥從低速度0m/min加速至高速度400m/min的所需時(shí)間。單位：5秒。當(dāng)輸入數(shù)值為4時(shí)，加速時(shí)間是20秒。

主輥減速時(shí)間設(shè)定：用于設(shè)定主輥從高速度400m/min減速至低速度0m/min的所需時(shí)間。單位：5秒。

收卷張力零速保持：用于設(shè)定零速?gòu)埩Ρ３謺r(shí)，收卷的力矩輸出值。

放卷張力零速保持：用于設(shè)定零速?gòu)埩Ρ３謺r(shí)，放卷的力矩輸出值。

編碼器輥直徑輸入：此數(shù)值為編碼器輥直徑的實(shí)際測(cè)量值。此數(shù)值必須正確無(wú)誤，以確保設(shè)備運(yùn)行過(guò)程的穩(wěn)定性。

放卷初徑誤差值正設(shè)定：用于設(shè)定卷繞系統(tǒng)啟動(dòng)運(yùn)行時(shí)，“放卷初始卷徑輸入”值允許高于實(shí)際測(cè)量值的誤差值。

放卷初徑誤差值負(fù)設(shè)定：用于設(shè)定卷繞系統(tǒng)啟動(dòng)運(yùn)行時(shí)，“放卷初始卷徑輸入”值允許低于實(shí)際測(cè)量值的誤差值。

擺輥動(dòng)作時(shí)間設(shè)定：用于設(shè)定擺臂在自動(dòng)控制模式時(shí)，擺輥電眼檢測(cè)到信號(hào)后擺臂自動(dòng)往外退的動(dòng)作時(shí)間。

真空電鍍?cè)O(shè)備的監(jiān)控方法

真空電鍍?cè)O(shè)備的監(jiān)控方法 1、目視監(jiān)控：使用眼睛監(jiān)控，因?yàn)楸∧ぴ谏L(zhǎng)的過(guò)程中，由于干涉現(xiàn)象會(huì)有顏色變化，我們就是根據(jù)顏色變化來(lái)控制膜厚度的，此種方式有一定的誤差，所以不是很準(zhǔn)確，需要依靠經(jīng)驗(yàn)。 2、極值監(jiān)控法：當(dāng)膜厚度增加的時(shí)候其反射率和穿透率會(huì)跟著起變化，當(dāng)反射率或穿透率走到極值點(diǎn)的時(shí)候，就可以知道鍍膜之光學(xué)厚度ND是監(jiān)控波長(zhǎng)（入）的四分之一的整倍數(shù)。但是極值的方法誤差比較大，因?yàn)楫?dāng)反射率或者透過(guò)率在極值附近變化很慢，亦就是膜厚ND增加很多，R/T才有變化。反映比較靈敏的位置在八分之一波長(zhǎng)處。 3.定值監(jiān)控法：此方法利用停鍍點(diǎn)不在監(jiān)控波長(zhǎng)四分之一波位，然后由計(jì)算機(jī)計(jì)算在波長(zhǎng)一時(shí)總膜厚之反射率是多少，此即為停止鍍膜點(diǎn)。