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發(fā)布時間:2020-12-03 04:56  
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簡單的光學(xué)薄膜模型是表面光滑、各向同性的均勻介質(zhì)薄層。在這種情況下,能夠用光的干與理論來研究光學(xué)薄膜的光學(xué)性質(zhì)。當(dāng)一束單色平面波入射到光學(xué)薄膜上時,在它的兩個表面上發(fā)作屢次反射和折射,反射光和折射光的方向由反射定律和折射定律給出,反射光和折射光的振幅大小則由菲涅耳公式確認(rèn)(見光在分界面上的折射和反射)。
應(yīng)用多層膜干涉原理的薄膜防偽技術(shù)主要有兩種:一種是“整膜”的薄膜防偽技術(shù);另一種是“碎膜”防偽技術(shù)。整膜和碎膜是指膜的形態(tài)而言。整膜是指一般意義上的防偽膜系;碎膜是指對反射式防偽膜系進(jìn)行破碎,然后將碎片加入油墨中制成防偽油墨,再用這種防偽油墨進(jìn)行防偽印刷。
防偽膜種類很多,從使用方法可分為反射式和透射式;從膜系附著方式可以分為直接鍍膜式、間接鍍膜轉(zhuǎn)移式或間接鍍膜剪貼式。
薄膜材料生長于基板材料(如屏顯玻璃、光學(xué)玻璃等)之上,一般由金屬、非金屬、合金或化合物等材料經(jīng)過鍍膜后形成,具有增透、吸收、截止、分光、反射、濾光、干涉、保護(hù)、防水防污、防靜電、導(dǎo)電、導(dǎo)磁、絕緣、耐磨損、耐高溫、耐腐蝕、防輻射、裝飾和復(fù)合等功能,并能夠提高產(chǎn)品質(zhì)量、環(huán)保、節(jié)能、延長產(chǎn)品壽命改善原有性能等。目前,薄膜材料制備技術(shù)主要包括物理氣相沉積(PVD)技術(shù)和化學(xué)氣相沉積(CVD)技術(shù).