蝕刻加工對(duì)基材有什么要求

我們一般可以理解蝕刻工藝是沖壓工藝的延伸，是可以替代沖壓工藝解決不了的產(chǎn)品生產(chǎn)問(wèn)題。沖壓會(huì)涉及到模具的問(wèn)題，而且大部份的沖壓模具都是比較昂貴的，一旦確定了的模具，如果想再次更改的話(huà)，就得需要再次開(kāi)模，很容易造成模具的浪費(fèi)以及減少生產(chǎn)的效率。

然而機(jī)蝕刻工藝很好的解決了沖壓工藝解決不了的問(wèn)題，如：模具可以隨時(shí)的更換、設(shè)計(jì)，并且成本低。變更的隨意性，可控性有了很大的增加。給設(shè)計(jì)人員提供了更廣闊的空間。同時(shí)，也幫助沖壓工藝解決了沖壓卷進(jìn)邊的問(wèn)題。但是，蝕刻工藝也不是的。往往需要與沖壓結(jié)合才能更好的發(fā)揮他們的特性。一般蝕刻后配合沖壓。也就是說(shuō)，蝕刻可以依照沖壓的模具設(shè)計(jì)成相應(yīng)的模具沖壓定位點(diǎn)。比如，成形，折彎的定位孔，可以在蝕刻時(shí)一并加工完成。還有一些連續(xù)模沖壓的問(wèn)題，也可以讓蝕刻產(chǎn)品做好相應(yīng)的定位。這樣就很好的解決了蝕刻后配合沖壓的問(wèn)題。兩種工藝相得益彰！互補(bǔ)互助，在市場(chǎng)上得到了廣泛的應(yīng)用。

濕式蝕刻的優(yōu)缺點(diǎn)

低成本、高可靠性、高產(chǎn)能及優(yōu)越的蝕刻選擇比。但相對(duì)于干式蝕刻，除了無(wú)法定義較細(xì)的線寬外，濕式蝕刻仍有以下的缺點(diǎn)：1)需花費(fèi)較高成本的反應(yīng)溶液及去離子水；2)化學(xué)藥品處理時(shí)人員所遭遇的安全問(wèn)題；3)光阻附著性問(wèn)題；4)氣泡形成及化學(xué)蝕刻液無(wú)法完全與晶圓表面接觸所造成的不完全及不均勻的蝕刻；5)廢氣及潛在的性。

濕式蝕刻過(guò)程可分為三個(gè)步驟：1)化學(xué)蝕刻液擴(kuò)散至待蝕刻材料之表面；2)蝕刻液與待蝕刻材料發(fā)生化學(xué)反應(yīng)；3)反應(yīng)后之產(chǎn)物從蝕刻材料之表面擴(kuò)散至溶液中，并隨溶液排出(3)。三個(gè)步驟中進(jìn)行慢者為速率控制步驟，也就是說(shuō)該步驟的反應(yīng)速率即為整個(gè)反應(yīng)之速率。

大部份的蝕刻過(guò)程包含了一個(gè)或多個(gè)化學(xué)反應(yīng)步驟，各種形態(tài)的反應(yīng)都有可能發(fā)生，但常遇到的反應(yīng)是將待蝕刻層表面先予以氧化，再將此氧化層溶解，并隨溶液排出，如此反復(fù)進(jìn)行以達(dá)到蝕刻的效果。如蝕刻硅、鋁時(shí)即是利用此種化學(xué)反應(yīng)方式。

金屬鋼網(wǎng)蝕刻過(guò)程中的化學(xué)參數(shù)控制

金屬鋼網(wǎng)蝕刻過(guò)程中的化學(xué)參數(shù)控制 參數(shù)控制對(duì)于維持蝕刻液持久而均勻的蝕刻速度的非常關(guān)鍵的，化學(xué)參數(shù)控制主要包括溶液濃度的控制盒溶液中各組分之間的比例控制。對(duì)這兩方面的控制，前者的濃度控制容易，可以通過(guò)分析的方法就能確定溶液中成分的消耗情況。而對(duì)后者控制難度要大一些，主要是因?yàn)槲g刻液中的添加物質(zhì)含量低，并且是一些難分析的有機(jī)材料，或和蝕刻液中的主料分離較為困難。 參數(shù)的控制依據(jù)來(lái)源于對(duì)同業(yè)成分的分析而不是經(jīng)驗(yàn)的估計(jì)，當(dāng)然對(duì)于一些小型的稀有金屬蝕刻廠并不排除操作者可以通過(guò)觀察蝕刻過(guò)程進(jìn)行的激烈程度、被金屬表面狀態(tài)以及溶液顏色的變化再根據(jù)經(jīng)驗(yàn)來(lái)進(jìn)行調(diào)節(jié)，并滿(mǎn)足在一定程度上的可控性。這種方式對(duì)于成分單一的蝕刻液具有一定的實(shí)用性，但對(duì)于成分組成復(fù)雜，同時(shí)對(duì)金屬鋼網(wǎng)蝕刻深度均一行要求較高的工件，采用這種方法有很大的局限性，難于保證批量生產(chǎn)的需要。從保證產(chǎn)品質(zhì)量穩(wěn)定的角度出發(fā)，要求蝕刻廠能把分析結(jié)果作為調(diào)整蝕刻液的依據(jù)。