經(jīng)過不斷改良和工藝設備發(fā)展，亦可以用于航空、機械、化學工業(yè)中電子薄片零件精密蝕刻產(chǎn)品的加工，特別在半導體制程上，蝕刻更是不可或缺的技術。

蝕刻：一種將材料使用bai化學反應或物理撞擊作用而du移除的技術。通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻，指通過曝光制版、顯影后，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

可以這樣認為：光圈（值）大小其實就是那個小圓窗戶開多大，快門（速度）就是窗戶打開多久。假設窗戶只打開1/4，時間為4秒鐘可以正確曝光的話，很顯然，窗戶打開一半，時間2秒鐘也能讓底片正確曝光，因為1/4*4=1/2*2=1，進光量都是一樣多。同樣的，如果窗戶全開，曝光時間就只需要1秒了。 假若一個鏡頭光圈全開為F4，用攝影行話來說，光圈F4快門速度1秒為正確曝光值，那F5.6和2秒以及F8和4秒也同樣能得到準確曝光的圖片。 重要結論：一張正確曝光的圖片可以有N種不同的光圈和快門速度組合。

曝光，是指被攝影物體發(fā)出或反射du的光線，通過照相機鏡頭投射zhi到感光片上，使之發(fā)生化學變化，產(chǎn)生顯dao影的過程。在攝影中，曝光就是光圈和快門的組合。

總結以上幾個名詞解釋，有三個因素能影響一張圖片是否正確曝光：光圈，快門速度，ISO（感光度）。其中光圈和速度聯(lián)合決定進光量，ISO決定ISOCCD/CMOS的感光速度。如果進光量不夠，我們可以開大光圈或者降低快門速度，還是不夠的話就提高感光度(ISO)。大光圈的缺點是解像度不如中等光圈，快門速度降低則圖片可能會糊，提高ISO后圖片質量也會下降 。沒有的方案，如何取舍要靈活決定。