整卷鍍色的優(yōu)勢：

1色差小整卷材質(zhì)、表面狀態(tài)均一致，整卷顏色一致。離子鍍在真空條件下，利用氣體放電使氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)部分電離，并在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，將蒸發(fā)物質(zhì)或其反應(yīng)物沉積在基片上的方法。2交貨時間短大幅提高資金周轉(zhuǎn)率，降低資金占壓。不銹鋼彩色卷板發(fā)貨，在當?shù)亟訂纹桨?，實現(xiàn)不銹鋼彩色板材不定尺上午下單下午交貨。為客戶創(chuàng)造價值。3價格低自動化生產(chǎn)大幅降低人工支出，生產(chǎn)效率大幅提升，具有平板鍍鈦的價格優(yōu)勢。4，低成本實現(xiàn)自動化生產(chǎn)，大幅提高工作效率，降低人力成本。

感應(yīng)加熱式蒸發(fā)鍍膜

利用高頻電磁場感應(yīng)加熱，使材料汽化蒸發(fā)在基片表面凝結(jié)成膜的技術(shù)。

優(yōu)點蒸發(fā)速率大，可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右  蒸發(fā)源的溫度穩(wěn)定，不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象坩堝溫度較低，坩堝材料對膜導(dǎo)污染較少缺點蒸發(fā)裝置必須屏蔽造價高、設(shè)備復(fù)雜

在真空中，高能粒子轟擊材料表面，使其原子獲得足夠的能量而逸出表面，到達襯底凝結(jié)成膜的技術(shù)。

與真發(fā)鍍膜相比，濺射鍍膜適用于所有（包括高熔點）材料，具有附著力強、成分可控、易于規(guī)模化生產(chǎn)等優(yōu)點。

但其工作氣壓低于蒸發(fā)鍍膜，因此膜層的含氣量和孔隙率大于蒸發(fā)鍍膜。

較為成熟的 PVD 方法主要有多弧鍍與磁控濺射鍍兩種方式。陰極電弧離子鍍的放電類型與前面幾種離子鍍的放電類型均不相同，它采用的是冷弧光放電。多弧鍍設(shè)備結(jié)構(gòu)簡單，容易操作。它的離子蒸發(fā)源靠電焊機電源供電即可工作，其引弧的過程也與電焊類似，具體地說，在一定工藝氣壓下，引弧針與蒸發(fā)離子源短暫接觸，斷開，使氣體放電。由于多弧鍍的成因主要是借助于不斷移動的弧斑，在蒸發(fā)源表面上連續(xù)形成熔池，使金屬蒸發(fā)后，沉積在基體上而得到薄膜層的，與磁控濺射相比，它不但有靶材利用率高，更具有金屬離子離化率高，薄膜與基體之間結(jié)合力強的優(yōu)點。