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拋光(化學機械拋光，Chemical Mechanical Polishing)　生產(chǎn)過程中的工藝是拋光晶圓片，此工藝在超凈間中進行。超凈間從一到一萬分級，這些級數(shù)對應于每立方米空間中的顆粒數(shù)。

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在各大科技廠商中，IBM是建議將碳納米管應用于微電子領域的強力支持者之一，該公司已經(jīng)明確表示希望碳納米管技術將在接下來的十年內(nèi)準備就緒，屆時預計半導體芯片的尺寸將縮小至5納米的極限尺寸。硅錠生長需要大塊的純凈多晶硅，將這些塊狀物連同少量的特殊III、V族元素放置在石英坩堝中，這稱為摻雜。但截至目前，各大學和芯片廠商的研究人員還只能成功地將碳納米管用于單獨器件的制作，如制作晶體管等。

即使2014年的支出已呈大幅度增長態(tài)勢，前道fab廠的支出仍需在2014年增長至少49%，才能使得設備支出回到2007年的水平。摩爾定律是由英特爾創(chuàng)始人之一戈登·摩爾(GordonMoore)于1965年提出來的，它指出：當價格不變時，集成電路上可容納的晶體管數(shù)量大約每隔18個月便會翻一番，性能也將提升一倍。此外，設備的支出計劃也取決于全球經(jīng)濟的持續(xù)復蘇情況。SEMI全球集成電路制造廠觀測報告(SEMIWorldFabForecast)預測，2011年前道fab的支出額將略遜于2007年，達到423億美元。