鍍膜是用物理或化學的方法在材料表面鍍上一層透明的電解質膜，或鍍一層金屬膜，目的是改變材料表面的反射和透射特性。

光學鍍膜材料的原材料，絕大部分屬于儲量非常小的稀有金屬。這些稀有金屬隨著科技的發(fā)展，其需求長期看漲。隨著鍍膜技術的不斷推廣，光學鍍膜技術的應用領域也在不斷拓寬，隨著我們生活水平的提高，這些具有優(yōu)異物理特性的金屬將為我們的生活帶來更多的精彩。Parylene涂層不僅有優(yōu)異的介電性能、低的介質損耗和高的介電強度，同時具有優(yōu)良的機械性能和耐輻射性能。

真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜是真空應用領域的一個重要方面，它是以真空技術為基礎，利用物理或化學方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術，為科學研究和實際生產提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進行蒸發(fā)或濺射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。?傳感器和換能器：自動化控制和惡劣環(huán)境下使用的傳感器、換能器，Parylene涂層防護可以提高環(huán)境適應性和可靠性，涂層無，且具有防潮功能。

眾所周知，在某些材料的表面上，只要鍍上一層薄膜，就能使材料具有許多新的、良好的物理和化學性能。20世紀70年代，在物體表面上鍍膜的方法主要有電鍍法和化學鍍法。前者是通過通電，使電解液電解，被電解的離子鍍到作為另一個電極的基體表面上，因此這種鍍膜的條件，基體必須是電的良導體，而且薄膜厚度也難以控制。后者是采用化學還原法，必須把膜材配制成溶液，并能迅速參加還原反應，這種鍍膜方法不僅薄膜的結合強度差，而且鍍膜既不均勻也不易控制，同時還會產生大量的廢液，造成嚴重的污染。因此，這兩種被人們稱之為濕式鍍膜法的鍍膜工藝受到了很大的限制。鐵氧體磁性材料及稀土永磁：高導磁軟磁鐵氧體小磁芯體積小、性能高、用量大。