AF真空鍍膜機(jī)鍍膜原理

AF真空鍍膜機(jī)鍍膜原理：減反射膜又稱增透膜，它的主要功能是減少或消除透鏡、棱鏡、平面鏡等學(xué)表面的反射光，從而增加這些元件的透光量，減少或消除系統(tǒng)的雜散光。減反射膜是以光的波動性和干涉現(xiàn)象為基礎(chǔ)的。二個振幅相同，波長相同的光波疊加，那么光波的振幅增強(qiáng)；如果二個光波原由相同，波程相差，如果這二個光波疊加，那么互相抵消了。減反射膜就是利用了這個原理，在鏡片的表面鍍上減反射膜(AR-coating），使得膜層前后表面產(chǎn)生的反射光互相干擾，從而抵消了反射光，達(dá)到減反射的效果。簡單的增透膜是單層膜。一般情況下，采用單層增透膜很難達(dá)到理想的增透效果,為了在單波長實(shí)現(xiàn)零反射,或在較寬的光譜區(qū)達(dá)到好的增透效果，往往采用雙層、三層甚至更多層數(shù)的減反射膜。減反射膜的實(shí)際應(yīng)用非常廣泛，常見的是鏡片及太陽能電池-通過制備減反射膜來提高光伏組件的功率瓦值。目前晶體硅光伏電池使用的減反射膜材料是氮化硅，采用等離子增強(qiáng)化學(xué)氣相淀積技術(shù)，使氨氣離子化，沉積在硅片的表面，具有較高的折射率，能起到較好的減反射效果。早期的光伏電池采用二氧化硅和二氧化鈦膜作為減反射層。

電子束蒸發(fā)的優(yōu)點(diǎn)在于：

電子束的光斑可以隨意調(diào)整，可以一槍多用，燈絲可以隱藏，避免污染，可以蒸發(fā)任意鍍膜材料，維修方便，蒸發(fā)速度可以隨意控制，材料分解小，膜密度高。機(jī)械強(qiáng)度好。濺射方式是用高速正離子轟擊靶材表面，通過動能傳輸，令靶材的分子（原子）有足夠的能量從靶材表面逸出，在產(chǎn)品表面凝聚形成薄膜。用濺射的方法制鍍的薄膜附著性強(qiáng)，薄膜的純度高，可以同時濺射多種不同成分的材料，但是對靶材的要求高，不能象電子槍一樣節(jié)約資源。目前運(yùn)用多的有磁控濺射，磁控濺射是指平行于陰極表面施加強(qiáng)電場，將電子約束在陰極靶材表面附近，提高電離效率。它是操作簡單的一種，所以運(yùn)用非常廣。

熱成型模真空鍍膜機(jī)有什么優(yōu)勢：

熱擠壓模：熱擠壓過程中所使用的鐵合金與非鐵合金工具必須經(jīng)受因腐蝕與超高溫而產(chǎn)生的高成形壓力，嚴(yán)重的磨粒磨損以及粘著磨損。HC物理氣相沉積涂層與HC化學(xué)氣相沉積涂層展現(xiàn)了其高韌性，耐磨性，抗腐蝕性以及熱穩(wěn)定性，而這些性能恰恰能夠明顯地提高工具的使用效率。HC化學(xué)氣相沉積涂層通常適用于擁有復(fù)雜幾何圖形和較大長寬比的工具。HC08,HC10或HC29涂層適用于公差要求不高的工具，而結(jié)合了滲氮處理的HC35,HC22或HC30涂層適用于公差要求很高的熱擠壓工具。

熱鍛模：熱鍛造過程中所使用的工具必須經(jīng)受高成形壓力，嚴(yán)重的磨粒磨損以及粘著磨損，并且需要經(jīng)歷要求嚴(yán)苛的熱環(huán)境條件。另外，它們必須經(jīng)受高水平的沖擊，因此地提升工具性能變得更具挑戰(zhàn)性。HC物理氣相沉積涂層具有高韌性，耐磨性，熱穩(wěn)定性以及抗擦傷性，而這些性能恰恰能夠提高工具的使用效率以及鐵合金與非鐵合金產(chǎn)品的質(zhì)量。

結(jié)合了滲氮處理的HC22,HC25與HC30涂層適用于熱鍛造工具。