鋼研納克國產ICP-MS PlasmaMS 300

 優(yōu)勢1——的四極桿電源驅動技術

DDS變頻技術

自動頻率匹配調諧，無需手動調電容，更安全

沒有機械電容部件，擁有的穩(wěn)定性、抗震動，無需經(jīng)常校準質量軸

專利：《 一種用于四級桿質譜儀的射頻電源》201610006009.2

PlasmaMS 300 優(yōu)勢2——的真空控制系統(tǒng)

先進的緩沖技術，機械泵間斷運行，儀器待機功耗極低

解決高真空腔體被機械泵油氣污染問題，保證儀器長時間性能穩(wěn)定

受專利保護《一種電磁閥緩沖、無返油渦輪分子泵抽真空系統(tǒng)》ZL2017 20926451.7

ICP-MS簡述

20世紀60年代末期，采用電感耦合等離子體源的原子光譜技術成為當時應用于微量元素分析的一項非常有前

途的技術（Greenfield等，1964； Wendt與Fassel, 1965）。但在分析超低含量物質時由于背景光譜增強，光譜干擾

嚴重使分析靈敏度和準確度達不到要求。只有質譜法能同時滿足譜圖簡單、分辨率適中和較低檢出限的要求。因此， ICP-AES所具有的樣品易于引入、分析速度快、多元素同時分析的特點與質譜儀的聯(lián)用成為科學和商業(yè)上研究的

熱點。1970年許多公司深入的參與了該技術的研究，CP作為發(fā)射源使等離子體中分析物有效電離能夠滿足新一代

儀器源的要求。同時也注意到惰性氣體在大氣壓下的電等離子體可能是一個很好的離子源。因此人們采用四極桿 質量分析器和通道式離子檢測器開展可行性研究。Gral在70年代中期首先報道了用等離子體作為離子源的質譜分 析法。1981年Gray在Surrey實驗室設計完成了 ICP源上所預期性能的設備，獲得了張ICP譜圖。1983年英 國VG公司與加拿大Sciex公司推出商業(yè)化的ICP-MS，1984年在用戶實驗室才安裝ICP-MS。在此以后 ICP-MS在化學分析中廣泛應用開來。

同位素及內標元素的選擇

選擇干擾小且豐度高的同位素。在ICP-MS分析過程中，分析信號會隨時間而發(fā)生漂移，而且化妝品樣品在分

析時的基體效應明顯，被測物信號會出現(xiàn)抑制或增應，使用內標元素，可以有效補償信號漂移和基體效應。 內標元素應選擇和目標元素性質相近、待側試樣不含有且不會對目標元素測定產生干擾的元素，常用的內標元素

為自然界中很少存在的元素，如：銃、釔、銠、錮、錸等，在化妝品樣品測試過程中，發(fā)現(xiàn)樣品中經(jīng)常含有銃、 釔等元素，因此選用銠、錸為內標元素。在內標液配置過程中，可加入適量（濃度小于5%）等， 起基體匹配的作用，使待測結果更準確。各待測同位素的選擇，分子離子的干擾情況和內標元素的選擇見表2。

本文建立的電感耦合等離子體質譜法能滿足化妝品中37種元素定量檢測的各項技術要求，實驗結果表明：方法具有簡便、準確、快速的特點，具有良好的精密度和回收率，適合于化妝品中多元素的同時測定。

 

ICP-MS分析流程的建立

對于一種新基體的樣品來說，常規(guī)的分析路徑如下：

1.  酸化或溶解樣品

樣品一般需要先進行酸化溶解使目標元素溶解在液體中.

2.  選擇目標分析物和目標同位素

根據(jù)濃度范圍來選擇分析物和同位素。

3.  先進行掃描以便識別出存在的干擾

可以先進行半定量掃描，可以通過半定量掃描判斷大致存在哪些元素以及各個元素 的大致濃度范圍。

4.   選擇數(shù)據(jù)的采集模式以及校正曲線的類型

一般如果使用連續(xù)流的數(shù)據(jù)采集模式，會使用外標定量法。也有其他的數(shù)據(jù)評估方

法可以使用。

5.  選擇合適的內標元素

內標元素的使用可以校正由于時間或基體抑制效應引起的信號漂移。

6.  能進行基體匹配

將標樣的基體匹配到和您的樣品基體完全一致，可以將兩者之間的差異減小到小， 并且有助于得到更為準確的結果數(shù)據(jù)。

7.  進行質量控制校正（QC check）

在分析過程中插入另一來源的標樣(2nd  Source Standard)或者有證標準物質 (Certified Reference Material)，確保數(shù)據(jù)的完整性。