等離子拋光是一種全新的金屬表面處理工藝,僅在工件表面的分子層與等離子反應(yīng),分子中原子一般間距為0.1-0.3納米,處理深度為0.3-4.5納米.拋光物的表面粗糙度在1MM范圍內(nèi),因此等離子化學(xué)活化工件表面,去除表面分子污染層,交叉鏈接表面化學(xué)物質(zhì)。

等離子拋光的優(yōu)勢(shì)。

     拋光技術(shù)是金屬表面處理的關(guān)鍵技術(shù)之一，拋光無(wú)論是在傳統(tǒng)產(chǎn)業(yè)還是在電子數(shù)碼產(chǎn)業(yè)中都是不可或缺的生產(chǎn)步驟。拋光是對(duì)工件表面精加工的過(guò)程，經(jīng)過(guò)拋光工序，工件表面粗糙度降低，一般說(shuō)來(lái)伴隨著光澤度的提高，工件拋光后其機(jī)械、物理及化學(xué)性能都有不同程度的改善。例如，粗糙度降低光潔度提高，耐腐蝕性提高，缺口敏感性降低，摩擦系數(shù)下降，磨損減少。

   等離子拋光采用的拋光技術(shù)是一種完全不同于傳統(tǒng)方法的新型拋光技術(shù)，此拋光技術(shù)是根據(jù)電化學(xué)原理與化學(xué)反應(yīng)原理而研發(fā)設(shè)計(jì)的。其拋光技術(shù)不使用對(duì)環(huán)境有污染和損害生產(chǎn)者健康的化學(xué)物品，但它的拋光效果卻能夠達(dá)到傳統(tǒng)方法很難達(dá)到的高品質(zhì)，拋光速度也是傳統(tǒng)拋光方法望塵莫及的，生產(chǎn)成本遠(yuǎn)遠(yuǎn)低于傳統(tǒng)拋光成本。

 由于等離子拋光有這些特性存在，所以目前應(yīng)用的非常廣，并且有取代電解拋光的趨勢(shì)。

再在拋光過(guò)程中記錄拋光量計(jì)算硫酸銨拋光液濃度.前一種方法應(yīng)用起來(lái)更為簡(jiǎn)便,可用于一般工業(yè)生產(chǎn);后一種方法適用于對(duì)拋光效果要求更高的加工.經(jīng)實(shí)驗(yàn)驗(yàn)證兩種方法均具有可行性.針對(duì)形狀復(fù)雜的工件,從氣層厚度和電場(chǎng)強(qiáng)度兩方面研究工件上的空間位置和形狀對(duì)拋光的影響.對(duì)于一些形狀特殊的工件的拋光方法進(jìn)行研究. 根據(jù)電解質(zhì)等離子拋光及其工藝的研究成果,設(shè)計(jì)電解質(zhì)等離子拋光設(shè)備,并使用該設(shè)備加工多種材質(zhì)的工件,為該技術(shù)的工業(yè)化應(yīng)用提供參考依據(jù).

等離子拋光和電解拋光的適用行業(yè)：

手機(jī)電子、集成電路制造、運(yùn)動(dòng)器材（高爾夫球具）、眼鏡制造、不銹鋼潔具、餐具、、手表飾品、汽車配件、LED制程、數(shù)碼配件、精密模具、航空航天及五金制品等行業(yè)。

等離子也稱為物質(zhì)的第四態(tài)，是一種電磁氣態(tài)放電現(xiàn)象，使氣態(tài)粒子部分電離，這種被電離的氣體包括原子、分子、原子團(tuán)、離子和電子。