脈沖激光沉積介紹

脈沖激光沉積，是一種用途廣泛的薄膜沉積技術(shù)。脈沖激光快速蒸發(fā)靶材，生成與靶材組成相同的薄膜。PLD 的獨(dú)特之處是能量源（脈沖激光）位于真空室的外面。這樣，在材料合成時(shí)，工作壓力的動(dòng)態(tài)范圍很寬，達(dá)到10-10 Torr ~ 100 Torr。通過(guò)控制鍍膜壓力和溫度，可以合成一系列具有獨(dú)特功能的納米結(jié)構(gòu)和納米顆粒。脈沖激光沉積以下內(nèi)容由沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您提供，希望對(duì)同行業(yè)的朋友有所幫助。

另外，PLD 是一種“數(shù)字”技術(shù)，在納米尺度上進(jìn)行工藝控制（A°/pulse）。

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脈沖激光沉積選件介紹

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)、銷(xiāo)售脈沖激光沉積，我們公司堅(jiān)持用戶(hù)為上帝，想用戶(hù)之所想，急用戶(hù)之所急，以誠(chéng)為本，講求信譽(yù)，以產(chǎn)品求發(fā)展，以質(zhì)量求生存，我們熱誠(chéng)地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)輝煌。

連續(xù)組成擴(kuò)展(CCS )

常規(guī)沉積條件下的組合合成

組合合成是一種基于脈沖激光沉積的、組合材料合成的新型連續(xù)組成擴(kuò)展(CCS) 方法。PLD-CCS 系統(tǒng)能以連續(xù)的方式改變材料，沒(méi)有必要使用掩模。可以在每一次循環(huán)中，以小于一個(gè)單分子層的速率，快速連續(xù)沉積每一種組份，其結(jié)果是基本等同于共沉積法。該法無(wú)需在沉積后進(jìn)行退火促進(jìn)內(nèi)部擴(kuò)散或結(jié)晶，對(duì)于生長(zhǎng)溫度是關(guān)鍵參數(shù)的研究或者被沉積的材料或基片不適合高溫退火的情況是有用的。公司生產(chǎn)、銷(xiāo)售脈沖激光沉積,公司擁有強(qiáng)大的銷(xiāo)售團(tuán)隊(duì)和經(jīng)營(yíng)理念。