國(guó)內(nèi)電池回收相關(guān)政策

振鑫焱光伏科技有限責(zé)任公司長(zhǎng)期購(gòu)置：天價(jià)回收硅片，電池片，初中級(jí)多晶硅，銀漿布，單晶硅，多晶硅，太陽電池，太陽能組件，太陽能光伏板，顧客撤離，退級(jí)，庫存量，El，欠佳檢測(cè)，2手，舊，工程項(xiàng)目，拆裝，道路路燈，拆卸發(fā)電廠，拆裝，人造板，層壓板，無界限結(jié)晶硅，多晶硅，單晶硅，試驗(yàn)板，負(fù)債還款，返修，太陽能發(fā)電控制模塊收購(gòu)等。

中國(guó)鋰電池回收有關(guān)現(xiàn)行政策 

在我國(guó)驅(qū)動(dòng)力鋰電池回收上坡過晚，鋰電池回收現(xiàn)行政策和規(guī)范尚不足健全，一部分處在征詢建議環(huán)節(jié)。 

2012年7月，國(guó)務(wù)下發(fā)《環(huán)保節(jié)能與新能源車發(fā)展趨勢(shì)產(chǎn)業(yè)發(fā)展》中明確提出：①奮力到2015年EV PHEV總計(jì)銷售量達(dá)50萬億元，到2020年總計(jì)產(chǎn)供銷超500萬億元；②提升動(dòng)力鋰電池梯階運(yùn)用和收購(gòu)管理方法。2014年7月《有關(guān)加速新能源車應(yīng)用推廣的實(shí)施意見》中強(qiáng)調(diào)：制訂鋰電池回收現(xiàn)行政策、完善鋰電池回收管理體系。2015年5月《中國(guó)制造業(yè)2025》上將“綠色發(fā)展理念”做為發(fā)展戰(zhàn)略指導(dǎo)方針，發(fā)展規(guī)劃中提及：工業(yè)生產(chǎn)廢棄物回收使用率至2015年規(guī)定超過65%，2020年73%，2025年則為79%。 

2016年1月《純電動(dòng)車動(dòng)力電池綜合利用技術(shù)性現(xiàn)行政策》中明確充電電池生產(chǎn)制造實(shí)施編號(hào)制、創(chuàng)建可回朔管理體系；確立選用經(jīng)營(yíng)者義務(wù)拓寬規(guī)章制度，充電電池制造商擔(dān)負(fù)鋰電池回收的關(guān)鍵義務(wù)。2016年12月《新能源車動(dòng)力電池綜合利用管理方法暫行規(guī)定（征求意見）》中談及：為有利于充電電池的再次收購(gòu)，在充電電池設(shè)計(jì)階段要遵照易拆裝標(biāo)準(zhǔn)，加工過程中務(wù)必噴碼標(biāo)識(shí)；除此之外管理?xiàng)l例中還涉及充電電池的市場(chǎng)銷售、運(yùn)用、存儲(chǔ)及運(yùn)送中與廢舊電池回收的多種多樣要求，是現(xiàn)階段比較詳盡的一整套提議。

電池片常見異常情況處理方法

振鑫焱光伏科技有限公司常年采購(gòu)：高價(jià)回收硅片，電池片，初級(jí)多晶硅，銀漿布，單晶硅，多晶硅，太陽能電池，光伏組件，太陽能電池板，客戶撤退，降級(jí)，庫存，El，不良測(cè)試，二手，舊工程，拆卸，路燈，拆解電站，拆卸，膠合板，層壓板，無邊界晶體硅，多晶硅，單晶硅，實(shí)驗(yàn)板，債務(wù)償還，返工，光伏模塊回收等。

六、 虛?。?

1、 網(wǎng)版堵塞：用醇先擦一遍，再用干無塵布擦干；

2、 印刷條不平:更換條；

3、 網(wǎng)版不合格：更換網(wǎng)版；

4、 車間溫度與濕度不合適：溫度控制在22±2℃,濕度控制在50±3%；

5、 印刷參數(shù)不合格：調(diào)整印刷壓力、印刷間隙與印刷速度

6、 工作臺(tái)板不平，磨損嚴(yán)重：檢查更換工作臺(tái)板；

7、 印刷機(jī)導(dǎo)軌不平：設(shè)備重新調(diào)整導(dǎo)軌；

七、 粗線：

1、 原硅片為線痕片：控制線痕原硅片；

2、 網(wǎng)版使用次數(shù)太多，張力不夠：更換新網(wǎng)版。

電池片流程

電池片流程

1、   車間段位構(gòu)成

WHQ ：硅片為太陽能電池片的載體，硅片的質(zhì)量決定了電池片的轉(zhuǎn)換效率。而該工序則是對(duì)硅片的來料檢測(cè)，主要是包括厚度， TTV ，電阻率，外觀 （破片，缺角，孔洞，臟污）

需注意 :

1)   切割方向會(huì)厚薄不均，放片時(shí)需 180 度錯(cuò)落放置以保證放入載體厚薄均勻，切割方向需要垂直與印刷 細(xì) 柵方向，預(yù)防水波紋出現(xiàn)。

2)   線痕：   單線痕

密集線痕

3 ）原硅片因切割后因有清洗所以會(huì)有粘度導(dǎo)致原硅片粘連，放置時(shí)需輕微搖晃。

制絨： 目的：去除表面損傷層，對(duì)表面進(jìn)行凹凸處理 ，清楚表面硅酸鈉，氧化物，油污以及金屬。以提高光電轉(zhuǎn)換率。

減重 ，活性不均勻會(huì)影響到后面 PEVCD 工序使硅片出現(xiàn)問題制絨過程中， 制絨面朝下，裝入載體，載體單孔面為制絨面。在制品時(shí)間為兩小時(shí)，兩小時(shí)內(nèi)要及時(shí)送入下一工序。