PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類：PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。PVD鍍膜膜層的厚度：PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為0.3μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為0.3μm～1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，鍍后不須再加工。

PVD鍍膜膜層的特點(diǎn)：采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(zhǎng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類：PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。

采用PVD涂鍍技術(shù)可以生產(chǎn)極薄的涂層且可以擴(kuò)張到其他合金體系,因此具有更廣闊的應(yīng)用價(jià)值。涂層厚度減半甚至到原來(lái)的1/3,對(duì)涂鍍板的焊接性能和成型性能會(huì)有很大的提高。更為重要的是，與傳統(tǒng)技術(shù)相比，PVD涂鍍技術(shù)不需要進(jìn)行yan塵和排放物的控制，因此，具有環(huán)保優(yōu)勢(shì)。采用新的PVD涂鍍技術(shù)，首先必須解決的問(wèn)題是，實(shí)現(xiàn)涂鍍工程的工業(yè)化規(guī)模生產(chǎn)，達(dá)到連續(xù)化和高速化涂鍍的要求。PVD（PhysicalVaporDepsition）鍍膜，是指利用物理手段實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子級(jí)新材料轉(zhuǎn)移到基材表面的過(guò)程。

在鋅液中添加鋅鎳合金可有效地降低鋅和鐵原子在ζ相中的擴(kuò)散速度，因而可以控制浸鍍層厚度的增長(zhǎng)，當(dāng)鋅液中Ni含量為0.06%時(shí)，Ni含量可達(dá)0.8%，加入Ni后厚度增長(zhǎng)明顯得到控制，因而可有效地控制浸鍍層厚度的增長(zhǎng)，并能改善鋅液的流動(dòng)性能。因此，使用鋅鎳合金進(jìn)行熱浸鍍鋅的鍍層厚度更加均勻，表面更光亮，鋅花少。

總之，熱鍍鋅后帶鋼表面缺陷情況較復(fù)雜，產(chǎn)生的原因也較多，解決辦法是多方面的，需要做大量艱若細(xì)致的工作，使熱鍍技木提高一步。