什么是光學(xué)鍍膜：

光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。

光學(xué)鍍膜原理：真空鍍膜真空鍍膜：真空鍍膜主要是指需要在更高真空下進(jìn)行的涂料，包括真空離子蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等多種涂料，所以。蒸發(fā)和濺射有兩種主要類型。將被鍍材料制成基材，將電鍍材料用作靶材或藥材。襯底處于與靶相同的真空中。

蒸發(fā)涂層通常是加熱目標(biāo)，以使表面組分以自由基或離子的形式蒸發(fā)，并通過(guò)成膜方法（散射島結(jié)構(gòu)-梯形結(jié)構(gòu)-層狀生長(zhǎng)）沉積在基材的表面上，薄膜。

對(duì)于濺射狀涂層，很容易理解目標(biāo)材料是用電子或高能激光器轟擊的，表面組分以自由基或離子的形式濺射，后沉積在基底表面上終形成一部薄膜。

常見的光學(xué)鍍膜材料有以下幾種：

1、二氧化硅材料特點(diǎn)：無(wú)色透明晶體，熔點(diǎn)高，硬度大，化學(xué)穩(wěn)定性好。純度高，用其制備高質(zhì)量Si02鍍膜，蒸發(fā)狀態(tài)好，不出現(xiàn)崩點(diǎn)。按使用要求分為紫外、紅外及可見光用。

2、氧化鋯材料特點(diǎn)白色重質(zhì)結(jié)晶態(tài)，具有高的折射率和耐高溫性能，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，純度高，用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜，不出崩點(diǎn)。

AF防指紋真空鍍膜機(jī)防指紋處理的工藝流程：

（1）使用弱堿性清洗劑或溶劑去除基材表面油分、水分等污跡，通過(guò)超聲波清洗效果更好;（2）將AF藥液鍍?cè)诋a(chǎn)品表面成膜;（3）烘烤：噴涂后取出玻璃，放入烤箱（120度，30分鐘），視具體要求及產(chǎn)品情況調(diào)整至良好;（4）清潔：產(chǎn)品清潔后，成品包裝。

AF防指紋真空鍍膜機(jī)特點(diǎn)和應(yīng)用領(lǐng)域:

（1）防污性：防止指紋及油污不容易粘附、輕易擦除；（2）防刮傷：表面滑順，手感舒服，不容易刮花；（3）膜層?。簝?yōu)異光學(xué)性能、不改變?cè)械募y理；（4）耐磨性：具有真度耐磨性能

AF防指紋真空鍍膜機(jī)的品質(zhì)：

（1）擦傷測(cè)試及水滴角指標(biāo)：（2）初始水滴角115-120度，（3）擦傷測(cè)試（#0000鋼絲絨、1KG壓力、10*10MM摩擦接觸面積、40-60RPM摩擦周期、40-60MM摩擦行程、（4）摩擦次數(shù)2000次）后，水滴角108-116度。（5）表面硬度以日本旭硝子玻璃鋼化蓋板為例，9HMax.鉛筆硬度。

包裝卷繞真空鍍膜設(shè)備

HCPAK系列卷繞鍍膜設(shè)備是用于鋁屏障包裝應(yīng)用的卷對(duì)卷金屬化解決方案。在利潤(rùn)率較低的行業(yè)中，的生產(chǎn)效率，再加上的產(chǎn)品性能，是應(yīng)對(duì)未來(lái)挑戰(zhàn)的。

通過(guò)將傳統(tǒng)的鋁涂層沉積到寬范圍的柔性基板上增強(qiáng)光學(xué)、保護(hù)和阻隔性能。HCPAK系列覆蓋了1100～3850mm的寬幅，以及所有常見的塑料薄膜和紙張基材，針對(duì)2500mm以上大寬幅基材以不同的速度實(shí)現(xiàn)輸出，比傳統(tǒng)系統(tǒng)提高25%以上的處理速度。

特點(diǎn)：高正常運(yùn)行時(shí)間，因?yàn)橐粋€(gè)強(qiáng)大和服務(wù)友好的機(jī)器概念由于強(qiáng)大的等離子預(yù)處理，產(chǎn)品一致性高，阻隔性能提高由于鋁蒸發(fā)器源的優(yōu)化配置，在層均勻性方面具有的產(chǎn)品質(zhì)量簡(jiǎn)化操作和優(yōu)化設(shè)計(jì)，便于操作的設(shè)備卷繞系統(tǒng)的創(chuàng)新設(shè)計(jì)概念使卷繞路徑能夠靈活地適應(yīng)基板和應(yīng)用的個(gè)別要求。由于穩(wěn)健的機(jī)器設(shè)計(jì)，正常運(yùn)行時(shí)間很長(zhǎng)