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磁控濺射沉積設(shè)備廠家價(jià)格合理「沈陽(yáng)鵬程」

發(fā)布時(shí)間:2021-06-26 08:26  

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磁控濺射介紹

沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司——專業(yè)生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品,我們公司堅(jiān)持用戶為上帝,想用戶之所想,急用戶之所急,以誠(chéng)為本,講求信譽(yù),以產(chǎn)品求發(fā)展,以質(zhì)量求生存,我們熱誠(chéng)地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)輝煌。

由于被濺射原子是與具有數(shù)十電子伏特能量的正離子交換動(dòng)能后飛濺出來(lái)的,因而濺射出來(lái)的原子能量高,有利于提高沉積時(shí)原子的擴(kuò)散能力,提高沉積組織的致密程度,使制出的薄膜與基片具有強(qiáng)的附著力。

濺射時(shí),氣體被電離之后,氣體離子在電場(chǎng)作用下飛向接陰極的靶材,電子則飛向接地的壁腔和基片。故對(duì)于絕緣靶材或?qū)щ娦院懿畹姆墙饘侔胁?,須用射頻濺射法(RF)。這樣在低電壓和低氣壓下,產(chǎn)生的離子數(shù)目少,靶材濺射效率低;而在高電壓和高氣壓下,盡管可以產(chǎn)生較多的離子,但飛向基片的電子攜帶的能量高,容易使基片發(fā)熱甚至發(fā)生二次濺射,影響制膜質(zhì)量。另外,靶材原子在飛向基片的過(guò)程中與氣體分子的碰撞幾率也大為增加,因而被散射到整個(gè)腔體,既會(huì)造成靶材浪費(fèi),又會(huì)在制備多層膜時(shí)造成各層的污染。



直流磁控濺射技術(shù)的原理

直流磁控濺射技術(shù)其原理是:在磁控濺射中,由于運(yùn)動(dòng)電子在磁場(chǎng)中受到洛侖茲力,它們的運(yùn)動(dòng)軌跡會(huì)發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運(yùn)動(dòng),其運(yùn)動(dòng)路徑變長(zhǎng),因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù),使等離子體密度增大,從而磁控濺射速率得到很大的提高,而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作,降低薄膜污染的傾向;另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量,因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量。臥式磁控濺射鍍膜機(jī)以下是沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司為您一起分享的內(nèi)容,沈陽(yáng)鵬程真空技術(shù)有限責(zé)任公司專業(yè)生產(chǎn)磁控濺射產(chǎn)品,歡迎新老客戶蒞臨。同時(shí),經(jīng)過(guò)多次碰撞而喪失能量的電子到達(dá)陽(yáng)極時(shí),已變成低能電子,從而不會(huì)使基片過(guò)熱。因此磁控濺射法具有“高速”、“低溫”的優(yōu)點(diǎn)。



磁控濺射系統(tǒng)介紹

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真空泵和測(cè)量裝置:

低真空:干泵和convectron真空規(guī)

高真空:渦輪分子泵,低溫泵和離子規(guī)

5.控制系統(tǒng):

硬件:PLC和計(jì)算機(jī)觸摸屏控制

自動(dòng)和手動(dòng)沉積控制

主要特點(diǎn):

射頻電源:基底預(yù)先清洗和等離子體輔助沉積

溫度控制器:基底加熱

大面積基底傳送裝置

冷卻系統(tǒng)



磁控濺射鍍膜機(jī)導(dǎo)致不均勻因素哪些?

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原理上講,兩點(diǎn):氣場(chǎng)和磁場(chǎng)

磁控濺射在0.4Pa的氣壓情況下離子撞擊靶材,濺射出粒子沉積到基材上,整體靶材的電壓幾乎一致,不影響濺射速率。

0.4Pa的氣場(chǎng)情況是濺射速率較高的情況,氣場(chǎng)變化,壓強(qiáng)變大和變小都會(huì)影響濺射速率。

磁場(chǎng)大,束縛的自由電子增多,濺射速率增大,磁場(chǎng)小,束縛的自由電子就少,濺射速率降低。

穩(wěn)定住氣場(chǎng)和磁場(chǎng),濺射速率也將隨之穩(wěn)定。

在實(shí)際情況下,氣場(chǎng)穩(wěn)定,需要設(shè)計(jì)布?xì)庀到y(tǒng),將布?xì)庀到y(tǒng)分級(jí)布置,保障鍍膜機(jī)腔體內(nèi)不同位置的進(jìn)氣量相同,同時(shí),布?xì)庀到y(tǒng)、靶材、基材等要遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)的抽氣口。需要穩(wěn)定磁場(chǎng),用高斯計(jì)測(cè)量靶材表面磁場(chǎng)強(qiáng)度,由于磁場(chǎng)線本身是閉合曲線,靶材磁場(chǎng)回路兩端磁場(chǎng)強(qiáng)度自然比中間位置強(qiáng),可以選擇用弱磁鐵,同時(shí),基材要避開(kāi)無(wú)法調(diào)整的磁場(chǎng)變化較大的部分。安全性:獨(dú)立開(kāi)發(fā)的PLC 觸摸屏智能操作系統(tǒng)在傳統(tǒng)操作系統(tǒng)的基礎(chǔ)上新具備了漏氣自檢與提示、通訊故障自檢、保養(yǎng)維護(hù)提示等功能,保證了設(shè)備的使用安全性能。

另外,在設(shè)備結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)方面,磁控濺射過(guò)程中,需要基材與靶材保持同軸,如果旋轉(zhuǎn)、直線運(yùn)行的話,也要同軸旋轉(zhuǎn)、直線運(yùn)行。