常用的光學(xué)鍍膜有哪些？

二，光學(xué)薄膜

減反射膜是應(yīng)用廣、產(chǎn)量大的一種光學(xué)薄膜，因此，它至今仍是光學(xué)薄膜技術(shù)中重要的研究課題，研究的重點(diǎn)是尋找新材料，設(shè)計(jì)新膜系,改進(jìn)淀積工藝,使之用少的層數(shù)，簡(jiǎn)單、穩(wěn)定的工藝，獲得盡可能高的成品率，達(dá)到理想的效果。對(duì)激光薄膜來(lái)說(shuō)，減反射膜是激光損傷的薄弱環(huán)節(jié)，如何提高它的破壞強(qiáng)度，也是人們關(guān)心的問(wèn)題之一。

反射膜

它的功能是增加光學(xué)表面的反射率。反射膜一般可分為兩大類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有把兩者結(jié)合起來(lái)的金屬電介質(zhì)反射膜。

一般金屬都具有較大的消光系數(shù)，當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí)，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光振幅迅速衰減，使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少，而反射光能增加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越迅速，進(jìn)入金屬內(nèi)部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大，光學(xué)性質(zhì)較穩(wěn)定的那些金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄膜材料是鋁，在可見(jiàn)光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常用作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質(zhì)膜加以保護(hù)。常用的保護(hù)膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。金屬反射膜的優(yōu)點(diǎn)是制備工藝簡(jiǎn)單，工作的波長(zhǎng)范圍寬；缺點(diǎn)是光損耗大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進(jìn)一步提高，可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是，金屬電介質(zhì)反射膜增加了某一波長(zhǎng)（或者某一波區(qū)）的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點(diǎn)。

真空鍍膜機(jī)濺射工藝

真空鍍膜機(jī)濺射工藝主要用于真空鍍膜機(jī)濺射刻蝕和薄膜沉積兩個(gè)方面。濺射刻蝕時(shí)，被刻蝕的材料置于靶極位置，受Ar離子的轟擊進(jìn)行刻蝕?？涛g速率與靶極材料的濺射產(chǎn)額、離子流密度和濺射室的真空度等因素有關(guān)。真空鍍膜機(jī)濺射刻蝕時(shí)，應(yīng)盡可能從真空鍍膜機(jī)濺射室中除去濺出的靶極原子。常用的方法是引入反應(yīng)氣體，使之與濺出的靶極原子反應(yīng)生成揮發(fā)性氣體，通過(guò)真空系統(tǒng)從濺射室中排出。沉積薄膜時(shí)，濺射源置于靶極，受Ar離子轟擊后發(fā)生濺射。如果靶材是單質(zhì)的，則在襯底上生成靶極物質(zhì)的單質(zhì)薄膜；若在濺射室內(nèi)有意識(shí)地引入反應(yīng)氣體，使之與濺出的靶材原子發(fā)生化學(xué)反應(yīng)而淀積于襯底，便可形成靶極材料的化合物薄膜。通常，制取化合物或合金薄膜是用化合物或合金靶直接進(jìn)行濺射而得。在濺射中，濺出的原子是與具有數(shù)千電子伏的高能離子交換能量后飛濺出來(lái)的，其能量較高，往往比蒸發(fā)原子高出1～2個(gè)數(shù)量級(jí)，因而用濺射法形成的薄膜與襯底的粘附性較蒸發(fā)為佳。

若在濺射時(shí)襯底加適當(dāng)?shù)钠珘?，可以兼顧襯底的清潔處理，這對(duì)生成薄膜的臺(tái)階覆蓋也有好處。另外，用真空鍍膜機(jī)濺射法可以制備不能用蒸發(fā)工藝制備的高熔點(diǎn)、低蒸氣壓物質(zhì)膜，便于制備化合物或合金的薄膜。濺射主要有離子束濺射和等離子體濺射兩種方法。離子束濺射裝置中，由離子槍提供一定能量的定向離子束轟擊靶極產(chǎn)生濺射。離子槍可以兼作襯底的清潔處理和對(duì)靶極的濺射。為避免在絕緣的固體表面產(chǎn)生電荷堆積，可采用荷能中性束的濺射。中性束是荷能正離子在脫離離子槍之前由電子中和所致。離子束濺射廣泛應(yīng)用于表面分析儀器中，對(duì)樣品進(jìn)行清潔處理或剝層處理。由于束斑大小有限，用于大面積襯底的快速薄膜淀積尚有困難。等離子體真空鍍膜機(jī)濺射也稱輝光放電濺射。產(chǎn)生濺射所需的正離子來(lái)源于輝光放電中的等離子區(qū)。靶極表面必須是一個(gè)高的負(fù)電位，正離子被此電場(chǎng)加速后獲得動(dòng)能轟擊靶極產(chǎn)生濺射，同時(shí)不可避免地發(fā)生電子對(duì)襯底的轟擊。

包裝卷繞真空鍍膜設(shè)備

HCPAK系列卷繞鍍膜設(shè)備是用于鋁屏障包裝應(yīng)用的卷對(duì)卷金屬化解決方案。在利潤(rùn)率較低的行業(yè)中，的生產(chǎn)效率，再加上的產(chǎn)品性能，是應(yīng)對(duì)未來(lái)挑戰(zhàn)的答案。

通過(guò)將傳統(tǒng)的鋁涂層沉積到寬范圍的柔性基板上增強(qiáng)光學(xué)、保護(hù)和阻隔性能。HCPAK系列覆蓋了1100～3850mm的寬幅，以及所有常見(jiàn)的塑料薄膜和紙張基材，針對(duì)2500mm以上大寬幅基材以不同的速度實(shí)現(xiàn)輸出，比傳統(tǒng)系統(tǒng)提高25%以上的處理速度。

特點(diǎn)：高正常運(yùn)行時(shí)間，因?yàn)橐粋€(gè)強(qiáng)大和服務(wù)友好的機(jī)器概念由于強(qiáng)大的等離子預(yù)處理，產(chǎn)品一致性高，阻隔性能提高由于鋁蒸發(fā)器源的優(yōu)化配置，在層均勻性方面具有的產(chǎn)品質(zhì)量簡(jiǎn)化操作和優(yōu)化設(shè)計(jì)，便于操作的設(shè)備卷繞系統(tǒng)的創(chuàng)新設(shè)計(jì)概念使卷繞路徑能夠靈活地適應(yīng)基板和應(yīng)用的個(gè)別要求。由于穩(wěn)健的機(jī)器設(shè)計(jì)，正常運(yùn)行時(shí)間很長(zhǎng)