真空鍍膜是指在真空環(huán)境下，將某種金屬或金屬化合物以氣相的形式沉積到材料表面（通常是非金屬材料），屬于物理氣相沉積工藝。因為鍍層常為金屬薄膜，故也稱真空金屬化。廣義的真空鍍膜還包括在金屬或非金屬材料表面真空蒸鍍聚合物等非金屬功能性薄膜。

PVD鍍膜過程非常復雜，由于鍍膜原理的不同分為很多種類，僅僅因為都需要高真空度而擁有統(tǒng)一名稱。所以對于不同原理的PVD真空鍍膜，影響均勻性的因素也不盡相同。并且均勻性這個概念本身也會隨著鍍膜尺度和薄膜成分而有著不同的意義。

　　真空鍍膜對環(huán)境無污染，特別是PVD方法。

　　真空鍍膜是需要有真空設備來完成的鍍膜，所以成本比較高，但真空鍍膜產品耐磨性好，耐腐蝕，環(huán)保，產品可過ROHS測試。

真空鍍膜技術是真空應用技術的一個重要分支，它已廣泛地應用于光學、電子學、能源開發(fā)，理化儀器、建筑機械、包裝、民用制品、表面科學以及科學研究等領域中。真空鍍膜所采用的方法主要有蒸發(fā)鍍、濺射鍍、離子鍍、束流沉積鍍以及分子束外延等。

東莞五金鍍膜廠真空五金鍍膜

真空鍍膜加工清除鍍膜室內的灰塵，設置清潔度高的工 作間，保持室內高度清潔是鍍膜工藝對環(huán)境的基本要求?？諝鉂穸却蟮牡貐^(qū)，除鍍前要對基片、真空室內各部 件認真清洗外，還要進行烘烤除氣。要防止油帶入真空室內，注意油擴散泵返油，對加熱功率高的擴散泵必須 采取擋油措施。PVD鍍膜加工工藝流程比較長、工序繁多，發(fā)生故障的影響因素會很多。如PVD鍍膜前處理不凈、清洗不良、電解液成分失調及雜質污染、生產環(huán)境不良等。PVD鍍膜而故障的原因往往存在于以上各影響因素的一兩個細節(jié)之中。