隨著鍍膜技術(shù)的快速增長，各種類型的真空鍍膜機(jī)也開始逐漸出現(xiàn)。但是論起薄膜的均勻性，恐怕所有的真空設(shè)備鍍制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響，現(xiàn)在我們就濺控濺射鍍膜機(jī)來看看造成不均勻的因素有哪些。  

   對(duì)此，真空鍍膜機(jī)廠家指出，它的運(yùn)作原理其實(shí)很簡單。就是通過真空狀態(tài)下正交磁場使電子轟擊氣形成的離子再轟擊靶材，靶材離子沉積于工件表面成膜。如此車燈鍍膜機(jī)廠家就該考慮與膜層厚度的均勻性有關(guān)的有真空狀態(tài)、磁場、氣這三個(gè)方面。真空狀態(tài)就需要抽氣系統(tǒng)來控制的，每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開動(dòng)并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了，壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。另外抽氣的時(shí)間也要控制，太短會(huì)造成真空度不夠，但太長又浪費(fèi)資源，不過有真空機(jī)的存在，要控制好還是不成問題的

真空鍍膜技術(shù)是在真空條件下采用物理或化學(xué)方法，使物體表面獲得所需的涂層，目前已被廣泛應(yīng)用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤滑、光電通訊、電子集成、能源等領(lǐng)域。真空鍍膜技術(shù)也是PVD涂層的常用制備方法，如真空蒸發(fā)、濺射鍍膜和離子鍍等通常稱為物理氣相沉積法（PVD），是基本的涂層制備技術(shù)。它們都要求淀積薄膜的空間要有一定的真空度。

真空鍍膜是在高真空中加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)在鍍膜部件表面形成薄膜的一種方法。如真空鍍鋁、真空鍍鉻等。

真空鍍膜是真空系統(tǒng)應(yīng)用發(fā)展領(lǐng)域的一個(gè)非常重要內(nèi)容方面，它是以真空處理技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)教學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。

鍍膜形成的薄膜的特性：表面光滑，膜層之間的界面呈幾何切割，膜層的折射率可以是在界面開始，但膜是連續(xù)的，能夠是通明介質(zhì)，也能夠是光學(xué)薄膜。

吸收介質(zhì)：能夠是法向均勻的，也能夠是法向不均勻的，實(shí)際需要使用的薄膜要比抱負(fù)薄膜進(jìn)行復(fù)雜得多，這是因?yàn)椋苽鋾r(shí)，薄膜的光學(xué)系統(tǒng)性質(zhì)和物理化學(xué)性質(zhì)發(fā)生偏離大塊材料，其表面和界面是粗糙的，從而可以導(dǎo)致一個(gè)光束的漫散射，膜層之間的相互影響滲透形成一種擴(kuò)散信息界面，因?yàn)槟拥某砷L、結(jié)構(gòu)、應(yīng)力等原因，形成了薄膜的各向異性，膜層具有非常復(fù)雜的時(shí)刻效應(yīng)。