我們通常所說(shuō)的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜；通常所說(shuō)的PVD鍍膜機(jī)，指的也就是真空離子鍍膜機(jī)。PVD鍍膜技術(shù)的原理：PVD鍍膜（離子鍍膜）技術(shù)，其具體原理是在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上。PVD鍍膜膜層的特點(diǎn)：采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(zhǎng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀(guān)裝飾性能。

PVD鍍膜膜層的特點(diǎn)：采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性（低摩擦系數(shù)）、很好的耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命更長(zhǎng)；同時(shí)膜層能夠大幅度提高工件的外觀(guān)裝飾性能。PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類(lèi)：PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級(jí)鍍層且無(wú)污染的環(huán)保型表面處理方法，它能夠制備各種單一金屬膜（如鋁、鈦、鋯、鉻等),氮化物膜（TiN、ZrN、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN),以及氧化物膜（如TiO等)。

②氮碳化鈦涂層（TiCN）：TiCN涂層是在TiN的基礎(chǔ)上添加碳元素，以提高涂層的硬度和低的摩擦系數(shù)用途：高速gang刀具，沖壓模具，成型模具。③氮鋁鈦（TiAlN）、氮鈦鋁AlTiN：俗稱(chēng)：中鋁（Al:Ti=50:50）、高鋁（Al:Ti=67：33）以上，TiAlN/AlTiN涂層在加工過(guò)程中形成的氧化鋁涂層可以有效提高加工工具的高溫加工壽命，AlTiN涂層的抗高溫氧化比TiAlN要高100度左右。用途：硬質(zhì)合金工具（加工材料硬度低于HRC45時(shí)建議用TiAlN,加工材料硬度高于HRC45時(shí)建議使用AlTiN涂層），薄壁件沖壓模具(TiAlN)，壓鑄模具（AlTiN）。

由于該工藝過(guò)程具有炸性質(zhì)，并可形成液化金屬的液滴，因此可能導(dǎo)致涂層表面粗糙。引入反應(yīng)氣體從而形成化合物2)濺射（電離度低）：濺射是用高能粒子轟擊靶材而使原子從固體靶材上彈出的過(guò)程。在薄膜涂層中，這是通過(guò)加速朝向固體靶材的ya離子，使其在靶材上擊出金屬原子并聚集在工件上來(lái)實(shí)現(xiàn)的。通過(guò)在真空腔室中引入氣體而形成如金屬氮化物等化合物。國(guó)內(nèi)外技術(shù)對(duì)比分析：①整體差距：調(diào)查資料顯示：目前，國(guó)外PVD涂層行業(yè)的生產(chǎn)設(shè)備一般技術(shù)力量雄厚，工藝裝備精良，檢測(cè)手段齊全，并擁有全國(guó)先進(jìn)的大噸位及配套生產(chǎn)設(shè)備，具有較強(qiáng)的生產(chǎn)能力。