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發(fā)布時(shí)間:2021-06-15 03:12  
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優(yōu)點(diǎn):
1、化學(xué)拋光設(shè)備簡單,不需要什么特殊設(shè)備,只需要一個(gè)盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。
2、如果用細(xì)薄磨料片切割的試樣,切割后不需要砂紙磨光,即可直接拋光。
3、有些非導(dǎo)體材料也可以用化學(xué)拋光,非導(dǎo)體嵌鑲的試樣也可以直接拋光。
4、化學(xué)拋光也可以處理形狀比較復(fù)雜的零件。
化學(xué)拋光主要用不銹鋼、銅及銅合金等。
化學(xué)拋光對鋼鐵零件,尤其是低碳鋼有較好的拋光效果,所以對于一些機(jī)械拋光時(shí)較為困難的鋼鐵零件,可采用化學(xué)拋光。
為了進(jìn)行化學(xué)拋光,必須使零件表面的凸部比凹部優(yōu)先溶解,因此應(yīng)將化學(xué)拋光的作用分為兩個(gè)階段來認(rèn)識。一階段是化學(xué)拋光時(shí)金屬表面現(xiàn)象的幾何凸凹的整平,去除較粗糙的表面不平度,獲得平均為數(shù)微米到數(shù)十微米的光潔度;第二階段是晶界附近的結(jié)晶不完整部分的平滑化,去除微小的不平,在0.1~0.01μm,相當(dāng)于光波長的范圍??蓪㈦A段稱為宏觀拋光或平滑化,把第二階段稱為微觀拋光或光澤化。
化學(xué)拋光是靠化學(xué)試劑的化學(xué)浸蝕作用對樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法?;瘜W(xué)拋光設(shè)備簡單,能夠處理細(xì)管、帶有深孔及形狀復(fù)雜的零件,生產(chǎn)。化學(xué)拋光可作為電鍍預(yù)處理工序,也可在拋光后輔助以必要的防護(hù)措施直接使用。
化學(xué)拋光同機(jī)械拋光相比,是一種更為先進(jìn)、更為科學(xué)的拋光方法,其特點(diǎn)為:可用于機(jī)械拋光甚感困難或無法加工的制件。如形狀、結(jié)構(gòu)比較復(fù)雜,具有不規(guī)則凹、凸結(jié)構(gòu)的制件,狹小縫隙或孔洞的內(nèi)表面,精細(xì)薄小的制件等。
化學(xué)拋光是在不供電情況下產(chǎn)生拋光效果,其拋光原理與利用電流作用的電解拋光在本質(zhì)上沒有太大差別?;瘜W(xué)拋光效果一般要比電解拋光效果差,在化學(xué)拋光中,由于材料的質(zhì)量不均勻,會引起局部電位高低不一,產(chǎn)生局部陰陽極區(qū),形成局部短路的微電池,使陽極發(fā)生局部溶解。
化學(xué)拋光主要用不銹鋼、銅及銅合金等?;瘜W(xué)拋光對鋼鐵零件,尤其是低碳鋼有較好的拋光效果,所以對于一些機(jī)械拋光時(shí)較為困難的鋼鐵零件,可采用化學(xué)拋光。
化學(xué)拋光,一般使用或磷酸等氧化劑溶液,在一定的條件下,使工件表面氧化,此氧化層又能逐漸溶人溶液,表面微凸起處氧化較快而較多,而微凹處則被氧化慢而少