PVD(物理氣相沉積)技術主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來，真空離子鍍技術的發(fā)展是zui快的，它已經(jīng)成為了當代zui先進的表面處理方法之一。物理氣相沉積是一種物理氣相反應生長法，沉積過程是在真空或低氣氣體放電條件下，涂層物質(zhì)源是固態(tài)物質(zhì)，經(jīng)過“蒸發(fā)或濺射”后，在零件表面生成與基材性能完全不同的新的固態(tài)物質(zhì)涂層。

PVD鍍膜與傳統(tǒng)化學電鍍（水電鍍）的異同：PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍的相同點是，兩者都屬于表面處理的范疇，都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點是：PVD鍍膜膜層與工件表面的結合力更大，膜層的硬度更高，耐磨性和耐腐蝕性更好，膜層的性能也更穩(wěn)定；PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。PVD鍍膜技術目前主要應用的行業(yè)：PVD鍍膜技術的應用主要分為兩大類：裝飾鍍膜和工具鍍膜。

清洗是通過化學或(及)物理的方法將工件上的油污、銹跡、灰塵等去除干凈，確保工件獲得較好的涂層結合力和生產(chǎn)的順利進行。清洗是PVD涂層前必不可少的一道工序，也是PVD涂層生產(chǎn)中zui重要的工藝，清洗出了問題，涂層生產(chǎn)不得不延遲、涂層過程可能中斷、或涂層結合力出現(xiàn)問題而導致客戶投訴和賠償，尤其是在涂層設備的技術能力不高的情況下，清洗出了問題，更容易發(fā)生上述風險。有四個因素影響著清洗的質(zhì)量，分別為：清洗時間、化學藥劑、機械作用以及清洗液溫度，這四個因素之間也相互影響，一個因素的減弱，可以通過增強另外三個因素的作用來彌補，反之亦然。

由于該工藝過程具有炸性質(zhì)，并可形成液化金屬的液滴，因此可能導致涂層表面粗糙。引入反應氣體從而形成化合物2)濺射（電離度低）：濺射是用高能粒子轟擊靶材而使原子從固體靶材上彈出的過程。在薄膜涂層中，這是通過加速朝向固體靶材的ya離子，使其在靶材上擊出金屬原子并聚集在工件上來實現(xiàn)的。通過在真空腔室中引入氣體而形成如金屬氮化物等化合物。國內(nèi)外技術對比分析：①整體差距：調(diào)查資料顯示：目前，國外PVD涂層行業(yè)的生產(chǎn)設備一般技術力量雄厚，工藝裝備精良，檢測手段齊全，并擁有全國先進的大噸位及配套生產(chǎn)設備，具有較強的生產(chǎn)能力。