公司產(chǎn)品包括石英掩膜版，蘇打掩膜版，以及菲林版。蘇州制版根據(jù)客戶的構(gòu)想、草圖，定制版圖，蘇州制版提供高質(zhì)量掩膜版以及后期的代加工服務(wù)！

數(shù)字圖像處理中，圖像掩模主要用于：①提取感興趣區(qū),用預(yù)先制作的感興趣區(qū)掩模與待處理圖像相乘,得到感興趣區(qū)圖像,感興趣區(qū)內(nèi)圖像值保持不變,而區(qū)外圖像值都為0。②屏蔽作用,用掩模對(duì)圖像上某些區(qū)域作屏蔽,使其不參加處理或不參加處理參數(shù)的計(jì)算,或僅對(duì)屏蔽區(qū)作處理或統(tǒng)計(jì)。在有必要的情況下，使用濕法或干法方式去除掩膜版上的光刻膠層，并對(duì)掩膜版進(jìn)行清洗。③結(jié)構(gòu)特征提取,用相似性變量或圖像匹配方法檢測(cè)和提取圖像中與掩模相似的結(jié)構(gòu)特征。④特殊形狀圖像的制作。

掩膜版是制作掩膜圖形的理想感光性空白板，通過(guò)曝光過(guò)程，這些圖形的信息將被傳遞到芯片上，用來(lái)制造芯片。

由于圖形數(shù)據(jù)準(zhǔn)備是掩膜版加工中的關(guān)鍵步驟，要求用戶對(duì)所提交的版圖文件仔細(xì)核對(duì)，確保圖形正確性。以下將對(duì)用戶較為關(guān)心的版圖繪制問(wèn)題作出具體說(shuō)明。另有一種厚膜（thick-film）集成電路（hybridintegratedcircuit）是由獨(dú)立半導(dǎo)體設(shè)備和被動(dòng)組件，集成到襯底或線路板所構(gòu)成的小型化電路。光掩模板或者光罩，曝光過(guò)程中的原始圖形的載體，通過(guò)曝光過(guò)程，這些圖形的信息將被傳遞到芯片上。制造芯片時(shí)用.

隨著沖版量的不斷增加和空氣中的CO2不斷溶入，顯影液中的OH-濃度會(huì)下降，pH值將越來(lái)越低，顯影時(shí)間應(yīng)慢慢變長(zhǎng)，至后在正常曝光條件下PS版無(wú)法顯影，這就是顯影液疲勞的現(xiàn)象。但隨著顯影液pH值的降低，堿液對(duì)氧化層和涂層樹(shù)脂的腐蝕力下降，版材的網(wǎng)點(diǎn)再現(xiàn)性及耐印力比用新配制的顯影液好一些。掩膜板是光刻圖形的基準(zhǔn)和藍(lán)本，掩膜板上:的任何缺陷都會(huì)對(duì)終圖形精度產(chǎn)生嚴(yán)重的影響。但必須注意兩點(diǎn)，一是沖版量必須控制在顯影液容許范圍內(nèi)；

接觸光刻技術(shù)中使用的掩模的表面特征圖案的尺寸與實(shí)際掩模的尺寸相同。i在襯底上形成的圖案是1∶1，并且以直接接近光致抗蝕劑層表面的方式曝光i光線；另一方面，縮微技術(shù)中使用的掩模具有表面特征圖案的實(shí)際尺寸。常見(jiàn)的光掩膜的種類(lèi)有四種，鉻版(chrome)、干版，凸版、液體凸版。i在襯底上形成的圖案的幾次通過(guò)光學(xué)系統(tǒng)投影模式曝光i光明。