基本原理是在500℃以上高溫條件下，使石墨中的雜質(zhì)（以硅酸鹽礦物為主）與燒jian，即NaOH起反應，生成水溶性反應物，用水浸取反應物，即可消除掉部分雜質(zhì)，另一部分雜質(zhì)，如鐵的氧化物，堿熔后用HCl中和，生成可溶子水的氯化鐵，用水洗滌即可除去。

上述工藝流程中，NaOH濃度為50%左右，與石墨按1：0.8的比例混合，即生產(chǎn)1 t高碳石墨消耗NaOH0.4t左右。HCl的加入量約為石墨的30%。燃料用煤約為0.6-0.7t。堿熔法所用設備主要有錨式攪拌機，熔融爐、螺旋漿攪拌機、V型洗滌槽等?；厥章?5—90%，投資15—20萬元。這種，工藝雖較先進，但也存在耗水量大、石墨流失多，生產(chǎn)率較低，耗堿量大，且排放的廢液污染環(huán)境等不足。

石墨陽極板與傳統(tǒng)銅電極的設計不同。許多模具廠通常在銅電極的粗加工和精加工有不同的預留量，而石墨電極則使用幾乎相同的預留量，這減少了CAD/CAM和機器加工的次數(shù)，單是這個原因，就足以在很大程度上提高模具型腔的精度。當然，模具廠由銅電極轉(zhuǎn)用石墨電極后，首先應該清楚的是該如何使用石墨材料以及考慮其他相關因素。如今部分群基火花機客戶采用石墨以電極放電加工，這免除了模具型腔拋光和化學物品拋光的工序卻仍然能達到預期的表面光潔度。

石墨舟推舟系統(tǒng)：石墨舟推舟系統(tǒng)采用軟著陸的方式，即將石墨舟放到反應管內(nèi)部后，石墨舟推舟機構(gòu)將退出，自動門關上。載片舟是經(jīng)特殊設計，在X軸、Y軸、Z軸三個方向可微調(diào)，再經(jīng)精加工而成。它直接影響到電場的分布、等離子的產(chǎn)生、氣流的走向、膜的品質(zhì)。成膜壓力甚至氣體的流量都與此結(jié)構(gòu)有關，所以推舟系統(tǒng)是本設備的核心部件。 管式PECVD系統(tǒng)：即使用像擴散爐管一樣的石英管作為沉積腔室，使用電阻爐作為加熱體，將一個可以放置多片硅片的石墨舟插進石英管中進行沉積。