PVD真空鍍膜有三種方式，即揮發(fā)鍍膜、磁控濺射鍍膜和離子鍍。在其中，揮發(fā)物質的分子被電子器件撞擊弱電解質后，以正離子沉積在固態(tài)表面，稱之為離子鍍。這類技術是D.麥托阿斯特里于1963年明確提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與負極磁控濺射技術的融合。真空泵離子鍍膜又可分成電孤離子鍍、磁控濺射離子鍍、中空負極離子鍍膜三種方法。

請問什么是PVD鍍膜？什么是PVD鍍膜機？PVD(物理氣相沉積)技術主要分為三類，真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術的三個分類，相應的真空鍍膜設備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來，真空離子鍍技術的發(fā)展是較快的，它已經成為了當代先進的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD鍍膜，指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機，指的也就是真空離子鍍膜機。

pvd真空蒸發(fā)鍍膜：原理及特點。原理：熱蒸發(fā)是在真空狀況下，將所要蒸鍛的材料利用電阻加熱達到熔化溫度，使原子蒸發(fā)，到達并附著在基板表面上的一種鍛膜技術。特點：設備簡單、操作容易；海膜純度高，質量好，厚度可控；速率快、效率好、可用掩膜獲得清晰圖形；薄膜生長機理比較單純。缺點：不易獲得結晶結構的薄膜；粘膜與基片附著力小；工藝正復性不夠好。