產(chǎn)品功能：

除垢

電磁場水與水垢接觸時，會引起水垢結(jié)構(gòu)中連接水（結(jié)晶水）數(shù)量發(fā)生變化，也就是產(chǎn)生再結(jié)晶，其結(jié)果使老垢的完整性受到破壞，較大顆?；蚨嗷蛏倜撀湎聛?。水還滲透到水垢和換熱器壁面之間，其結(jié)果使水垢脫落。

殺菌滅藻：

在電解水處理過程中，溶解氧得到活化，產(chǎn)生O2—、.OH、H2O2以及時1O2等活性氧。活性氧自由基對微生物機體產(chǎn)生殺滅作用，是造成微生物衰老的主要原因。

（1）O2—可損傷重要的生物大分子，造成微生物機體損傷；

（2）O2—增加微生物機體膜脂過氧化，加速衰老。

（3）能殺滅的微生物（細菌類、病毒）：

防垢

高頻振蕩場應(yīng)用于防垢，是由于存在大量的“離子締合體”，在水溶液中提供了大量的結(jié)晶核心。結(jié)晶核心越多，生成的結(jié)晶數(shù)量也越多，水垢結(jié)晶的線性尺寸就越小，此外，由于單個或雙氫聯(lián)結(jié)的水分子數(shù)量增多，水分子的活動更“自由”，他占據(jù)水溶液的其他空隙，象形成極薄的膜一樣，因而阻礙晶體的生長，促使水垢結(jié)晶線性尺寸減少，使水垢呈松軟的細小顆粒，隨排污水排除。

除銹

水在高頻電磁場作用下，水中的離子發(fā)生移動，產(chǎn)生微電子流，從而促使紅銹向穩(wěn)定的黑銹轉(zhuǎn)化，終形成穩(wěn)定的磁性四氧化三鐵保護膜，使水中的氧和管壁的鐵完全隔離。

在水處理器運行，應(yīng)定期從管道點或水箱底部排污：熱水系統(tǒng)與鍋爐系統(tǒng)為保證使用效果應(yīng)堅持排污（一般一天一次），排污量為系統(tǒng)的1-3%，中央空調(diào)系統(tǒng)可每月三次;

如不清洗直接安裝的系統(tǒng)，在除垢期內(nèi)（3個月內(nèi)）應(yīng)增加排污次數(shù)與排污量，以防老垢脫落、堵塞管路，為增長水處理器使用壽命，當系統(tǒng)停止運行，電子水處理器也要斷電停機，嚴禁空載運行;電子水處理器均有緩蝕功能，但對要求特別高或間斷使用的系統(tǒng)可適時添加一些緩蝕劑以延長管道使用年限。

電子水處理儀應(yīng)用范圍空調(diào)、制冷循環(huán)水系統(tǒng)；工業(yè)冷卻循環(huán)水系統(tǒng)；熱交換系統(tǒng)及冷卻系統(tǒng)；熱水鍋爐、茶爐、洗浴爐、游泳池；因升溫而結(jié)垢的設(shè)備。

電子水處理器產(chǎn)品結(jié)構(gòu)

電子水處理器由主機（電子發(fā)生器）和輔機（釋能器）兩部分組成。

主機：電子電源，產(chǎn)生高頻電場信號。

輔機：其殼體為陰極，被處理的水通過電極棒與殼體之間的環(huán)狀空間流入用水設(shè)備。

在晶體管、集成電路生產(chǎn)中，純水主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制，硅片氧化的水汽源，部分設(shè)備的冷卻水，配制電鍍液等。集成電路生產(chǎn)過程中的80%的工序需要使用高純水清洗硅片，水質(zhì)的好壞與集成電路的產(chǎn)品質(zhì)量及生產(chǎn)成品率關(guān)系很大。水水中細菌高溫碳化后的磷(約占灰分的20-50%)會使P型硅片上的局部區(qū)域變?yōu)镹型硅而導(dǎo)致器件性能變壞，與傳統(tǒng)的水處理技術(shù)相比，膜技術(shù)具有工藝簡單、操作方便、易于自動控制、能耗小、無污染、去除雜質(zhì)、運行成本低等優(yōu)點，特別是幾種膜技術(shù)的配合使用，再輔之以其他水處理工藝，如石英砂過濾、活性炭吸附、脫氣、離子交換、UV殺菌等，為去除水中的各種雜質(zhì)，滿足日益發(fā)展的電子工業(yè)對高純水的需要，提供了有效而可靠的手段，而且也只有應(yīng)用了多種膜技術(shù)，才能生產(chǎn)出合格、穩(wěn)定的高純水。