潔凈工作臺(tái)

潔凈工作臺(tái)分為垂直流工作臺(tái)和水平流工作臺(tái)兩種，潔凈工作臺(tái)是改善工藝條件、確保潔凈潔度的凈化設(shè)備之一，廣泛應(yīng)用于局部要求潔凈度較高生產(chǎn)的區(qū)域，如：實(shí)驗(yàn)室、生物制藥、醫(yī)院、LED光電、線路板、微電子、硬盤(pán)制造、食品加工等領(lǐng)域。 潔凈工作臺(tái)特點(diǎn)： 1、潔凈工作臺(tái)采用超薄型無(wú)隔板過(guò)濾器, 過(guò)濾效率靜態(tài)百級(jí)。 2、工作臺(tái)配離心風(fēng)機(jī)，具有長(zhǎng)壽命、低噪聲、免維護(hù)、震動(dòng)小。 3、超凈工作臺(tái)采用可調(diào)送風(fēng)系統(tǒng),旋鈕型無(wú)級(jí)調(diào)節(jié)風(fēng)速與LED控制開(kāi)關(guān)可選配4、凈化工作臺(tái)配大風(fēng)量粗效過(guò)濾器, 方便拆卸、更好地保護(hù)過(guò)濾器,確保潔凈度。 5、靜態(tài)百級(jí)工作臺(tái)可根據(jù)工藝要求，可單臺(tái)使用，也可將多臺(tái)組成100級(jí)超凈生產(chǎn)線。 6、潔凈工作臺(tái)可選配裝壓差表，明確指示過(guò)濾器兩側(cè)的壓差，以便提醒更換過(guò)濾器。 7、超凈工作臺(tái)有多種規(guī)格，可根據(jù)生產(chǎn)需求非標(biāo)訂做。

單向流潔凈室的建造和運(yùn)行費(fèi)用要高得多

單向流潔凈室

單向流潔凈室一般有兩種類型，即水平流和垂直流。在水平流系統(tǒng)中，氣流是從一面墻流向另一面墻。在垂直流系統(tǒng)中，氣流是從吊頂流向地面。對(duì)要求潔凈室的懸浮粒子濃度或微生物濃度更低的場(chǎng)合，就使用單向氣流。以前稱這類潔凈室為“層流”潔凈室。單向流和層流的名稱均說(shuō)明了其氣流的狀況：氣流以一個(gè)方向流動(dòng)（或是垂直的或是水平的），并以一般是0.3米/秒至0.5米/秒（60英尺/分鐘至100英尺/分鐘）的均速流過(guò)整個(gè)空間。圖1是典型的垂直流潔凈室的剖面圖。從圖中可以看出，由滿布潔凈室吊頂?shù)倪^(guò)濾器向室內(nèi)送風(fēng)。氣流有如一個(gè)空氣活塞，向下流經(jīng)室內(nèi)，帶走污染物，然后從地面排出。又在與外部的一些新鮮空氣混合后，再循環(huán)至過(guò)濾器。人員和工藝所產(chǎn)生的懸浮污染可立即被這種空氣清除掉，而紊流通風(fēng)系統(tǒng)采用的是混合與稀釋原理。在一間沒(méi)有任何障礙物的空房間，單向流用比前面提到的低得多的風(fēng)速，就可以很快將污染物清除。但在一個(gè)操作間，機(jī)器以及機(jī)器周?chē)邉?dòng)的人員，會(huì)對(duì)氣流形成障礙。障礙物可以使單向流變成紊流，從而在障礙物周?chē)纬蓺饬鲌F(tuán)。人員的活動(dòng)也可以使單向流變成紊流。在這些紊流中，由于風(fēng)速較低，空氣稀釋程度較小，從而使得污染濃度較高。因此，必須將風(fēng)速保持在0.3米/秒至0.5米/秒（60英尺/分鐘至100英尺/分鐘）的范圍里，以便使中斷的單向流能快速恢復(fù)，充分稀釋障礙物周?chē)闪鲄^(qū)的污染。用風(fēng)速可以正確地表示出單向流，因?yàn)轱L(fēng)速越高室內(nèi)就越潔凈。而每小時(shí)換氣次數(shù)與房間的體積有關(guān)，如吊頂?shù)母叩?，因此不適合用來(lái)表示單向流。單向流室內(nèi)的送風(fēng)量是紊流室的很多倍（10到100倍）。所以這樣的潔凈室的建造和運(yùn)行費(fèi)用要高得多

潔凈室中的溫濕度控制

潔凈室中的溫濕度控制 潔凈空間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來(lái)確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對(duì)溫濕度的要求也越來(lái)越嚴(yán)的趨勢(shì)。 具體工藝對(duì)溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來(lái)越精細(xì)，所以對(duì)溫度波動(dòng)范圍的要求越來(lái)越小。例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來(lái)越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時(shí)要求濕度值一般較低，因?yàn)槿顺龊挂院?，?duì)產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車(chē)間，這種車(chē)間不宜超過(guò)25度。 濕度過(guò)高產(chǎn)生的問(wèn)題更多。相對(duì)濕度超過(guò)55%時(shí)，冷卻水管壁上會(huì)結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會(huì)引起各種事故。相對(duì)濕度在50%時(shí)易生銹。此外，濕度太高時(shí)將通過(guò)空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面耐難以清除。相對(duì)濕度越高,粘附的難去掉，但當(dāng)相對(duì)濕度低于30%時(shí)，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時(shí)大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對(duì)于硅片生產(chǎn)佳溫度范圍為35—45%。 潔凈室中的氣壓規(guī)定 對(duì)于大部分潔凈空間，為了防止外界污染侵入，需要保持內(nèi)部的壓力（靜壓）高于外部的壓力（靜壓）。壓力差的維持一般應(yīng)符合以下原則： 1．潔凈空間的壓力要高于非潔凈空間的壓力。 2.潔凈度級(jí)別高的空間的壓力要高于相鄰的潔凈度級(jí)別低的空間的壓力。 3.相通潔凈室之間的門(mén)要開(kāi)向潔凈度級(jí)別高的房間。 壓力差的維持依靠新風(fēng)量，這個(gè)新風(fēng)量要能補(bǔ)償在這一壓力差下從縫隙漏泄掉的風(fēng)量。所以壓力差的物理意義就是漏泄（或滲透）風(fēng)量通過(guò)潔凈室的各種縫隙時(shí)的阻力。