線列式磁控生產(chǎn)線

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采用先進的in-line產(chǎn)線結(jié)構(gòu)，Twin-Mag孿生陰極磁控濺射技術(shù)，并配以全自動控制系統(tǒng)、先進的真空系統(tǒng)，可在玻璃襯底上鍍制SiO2、ITO、AZO、Al、Ni、Ti等各類絕緣介質(zhì)薄膜、金屬或合金薄膜，并可連續(xù)濺鍍多種不同材質(zhì)的薄膜構(gòu)成復合多膜層結(jié)構(gòu)，適合大規(guī)模光學、電學薄膜的生產(chǎn)，做到一機多用具有高能效、高可靠性、低成本的優(yōu)勢。設備簡介主要特點是設備體積小，結(jié)構(gòu)簡單緊湊易于操作，對實驗室供電要求低。

     本產(chǎn)品可廣泛應用于觸摸屏ITO鍍膜、LCD顯示屏ITO鍍膜、薄膜太陽能電池背電極及AZO鍍膜、彩色濾光片鍍膜、電磁屏蔽玻璃鍍膜、AR鍍膜、裝飾鍍膜等產(chǎn)業(yè)領(lǐng)域。

直流磁控濺射技術(shù)的原理

沈陽鵬程真空技術(shù)有限責任公司——專業(yè)生產(chǎn)、銷售磁控濺射產(chǎn)品，我們公司堅持用戶為上帝，想用戶之所想，急用戶之所急，以誠為本，講求信譽，以產(chǎn)品求發(fā)展，以質(zhì)量求生存，我們熱誠地歡迎各位同仁合作共創(chuàng)輝煌。

直流磁控濺射技術(shù)其原理是：在磁控濺射中，由于運動電子在磁場中受到洛侖茲力，它們的運動軌跡會發(fā)生彎曲甚至產(chǎn)生螺旋運動，其運動路徑變長，因而增加了與工作氣體分子碰撞的次數(shù)，使等離子體密度增大，從而磁控濺射速率得到很大的提高，而且可以在較低的濺射電壓和氣壓下工作，降低薄膜污染的傾向；另一方面也提高了入射到襯底表面的原子的能量，因而可以在很大程度上改善薄膜的質(zhì)量。同時，經(jīng)過多次碰撞而喪失能量的電子到達陽極時，已變成低能電子，從而不會使基片過熱。因此磁控濺射法具有“高速”、“低溫”的優(yōu)點。真空泵和測量裝置：低真空：干泵和convectron真空規(guī)高真空：渦輪分子泵，低溫泵和離子規(guī)5。

【磁控濺射鍍膜設備】使用注意事項

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磁控濺射鍍膜設備是目種鍍膜產(chǎn)品，相比傳統(tǒng)的水電鍍來講，磁控濺射鍍膜設備無毒性，能夠掩蓋，彌補多種水電鍍的缺陷。

近年來磁控濺射鍍膜設備技術(shù)得到了廣泛的應用，現(xiàn)國內(nèi)磁控濺射鍍膜設備廠家大大小小的也非常多，但是專注于磁控濺射鍍膜設備生產(chǎn)，

經(jīng)驗豐富的卻造磁控濺射鍍膜設備廠家，就一定會有一定的規(guī)模，這類磁控濺射鍍膜設備不像是小件的東西，

磁控濺射鍍膜設備其技術(shù)含量非常的高，選購磁控濺射鍍膜設備時一定要先了解。

磁控濺射鍍膜設備技術(shù)含量高，那么就一定要擁有一個非常強大的磁控濺射鍍膜設備技術(shù)工程隊伍，

磁控濺射鍍膜設備行業(yè)資深的，磁控濺射鍍膜設備可根據(jù)用戶的產(chǎn)品工藝及物殊要求設計配置。