工業(yè)廢氣處理設(shè)備原理

1.采用低溫等離子體高壓放電，電場吸附有害有毒氣體在吸煙板上，在疊加脈沖作用下打開分子鍵、激1活自由基、釋放臭氧，通過化學(xué)反映，自由結(jié)合，產(chǎn)生二氧化碳和水，對人體無害的同時，還在設(shè)備前后設(shè)置了各種過濾材料，針對不同廢氣的裝置，確保完全徹底的凈化效果。

2.利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧，即活性氧，因游離氧所攜正負(fù)電子不平衡所以需與氧分子結(jié)合，進而產(chǎn)生臭氧。

3.利用特1制的高能高臭氧UV紫外線光束照射惡臭氣體，改變惡臭氣體,在高能紫外線光束照射下，降解轉(zhuǎn)變成低分子化合物，如CO2、H2O等。

廢氣處理設(shè)備的特點

廢氣處理設(shè)備作為環(huán)保工程，設(shè)計中盡量減少處理本身對環(huán)境的負(fù)1面影響，如氣味、噪音、固體廢棄物等。

排放出路：廢氣處理后通過17米煙囪高空達(dá)標(biāo)排放

采樣位置：采樣位置應(yīng)優(yōu)先選擇在垂直管段。應(yīng)避開煙道彎頭和斷面急劇變化的部位。采樣位置應(yīng)設(shè)置在據(jù)彎頭、閥門、變徑管下游方向不小于6倍直徑和距上述部件上游方向不小于3倍直徑處，對矩形煙囪道，其當(dāng)量直徑D=2AB/(A B)，式中A，B為邊長。

對于氣態(tài)污染物，由于混合比較均勻，其采樣位置可不受上述規(guī)定限制，但應(yīng)避開渦流區(qū)。如果同時測定排氣流量，采樣位置仍按1.1選取。采樣位置應(yīng)避開對測試人員操作有危險的場所。

廢氣處理設(shè)備的日常維護

日常需要做的是經(jīng)常檢查風(fēng)機的運行情況，水泵是否正常運行，濾液、噴嘴是否開啟或堵塞，液位是否正常，浮球是否不工作等日常維護。中性液體的濃度在規(guī)定的范圍內(nèi)有吸收。如發(fā)現(xiàn)上述問題，應(yīng)立即處理，不得強行操作，以免影響設(shè)備運行質(zhì)量或造成設(shè)備損失。在生產(chǎn)中，生產(chǎn)的正常運行往往受到廢氣處理設(shè)備輔助工作誤差的影響。例如，分析中的錯誤會導(dǎo)致進料量和材料成分的變化。對廢氣處理設(shè)備的錯誤指示會欺騙操作人員，使實際操作條件大大偏離工藝規(guī)程的要求。電氣和設(shè)備故障也會導(dǎo)致生產(chǎn)異常。