CT系列鍍膜機

CT(Custamued workstation)系列鍍膜機系我司非標定制產(chǎn)品，根據(jù)您的要求單獨設計，滿足您的特殊需要。

特點：1、按需開發(fā)，量身定制。

2、整機采用柜式結構，密封性能好，防塵防水，安全。

3、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選

4、可集成手套箱系統(tǒng)

5、可集成多種自動化應用

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薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性，也可以理解為粗糙度，在光學薄膜的尺度上看（也就是1/10波長作為單位，約為100A），真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當好，可以輕松將粗糙度控制在可見光波長的1/10范圍內(nèi)，也就是說對于薄膜的光學特性來說，真空鍍膜沒有任何障礙。艾明坷科技有限公司主營手套箱，如需了解更多詳情,歡迎與我們交流。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度，也就是說要實現(xiàn)10A甚至1A的表面平整，具體控制因素下面會根據(jù)不同鍍膜給出詳細解釋。

2.化學組分上的均勻性： 就是說在薄膜中，化合物的原子組分會由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性，SiTiO3薄膜，如果鍍膜過程不科學，那么實際表面的組分并不是SiTiO3，而可能是其他的比例，鍍的膜并非是想要的膜的化學成分，這也是真空鍍膜的技術含量所在。說到這里，很多人都遇到過真空方面的漏氣問題，真空部分出現(xiàn)了問題很麻煩，再加上我們公司沒有檢漏儀，這就要分階段來找。 具體因素也在下面給出。

以上內(nèi)容由艾明坷為您提供，今天我們來分享的是薄膜均勻性概念的相關內(nèi)容，希望對您有所幫助！

真空鍍膜機鍍制薄膜不均勻的解決方法

制的薄膜的均勻性都會受到某種因素影響。真空狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)來控制的，每個抽氣口都要同時開動并力度一致，這樣就可以控制好抽氣的均勻性，如果抽氣不均勻，在真空室內(nèi)的壓強就不能均勻了，壓強對離子的運動是存在一定的影響的。此外，雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定，但溫度高，它將成為對溫度很敏感。另外抽氣的時間也要控制，太短會造成真空度不夠，但太長又浪費資源，不過有真空計的存在，要控制好還是不成問題的。

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