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真空鍍膜系統(tǒng)廠家的行業(yè)須知【艾明坷】

發(fā)布時(shí)間:2021-01-08 20:59  

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CT系列鍍膜機(jī)

CT(Custamued workstation)系列鍍膜機(jī)系我司非標(biāo)定制產(chǎn)品,根據(jù)您的要求單獨(dú)設(shè)計(jì),滿足您的特殊需要。

特點(diǎn):1、按需開發(fā),量身定制。

2、整機(jī)采用柜式結(jié)構(gòu),密封性能好,防塵防水,安全。

3、磁控、熱蒸發(fā)多種鍍膜方式可選

4、可集成手套箱系統(tǒng)

5、可集成多種自動(dòng)化應(yīng)用

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薄膜均勻性概念

1.厚度上的均勻性,也可以理解為粗糙度,在光學(xué)薄膜的尺度上看(也就是1/10波長(zhǎng)作為單位,約為100A),真空鍍膜的均勻性已經(jīng)相當(dāng)好,可以輕松將粗糙度控制在可見光波長(zhǎng)的1/10范圍內(nèi),也就是說對(duì)于薄膜的光學(xué)特性來說,真空鍍膜沒有任何障礙。艾明坷科技有限公司主營(yíng)手套箱,如需了解更多詳情,歡迎與我們交流。 但是如果是指原子層尺度上的均勻度,也就是說要實(shí)現(xiàn)10A甚至1A的表面平整,具體控制因素下面會(huì)根據(jù)不同鍍膜給出詳細(xì)解釋。

2.化學(xué)組分上的均勻性: 就是說在薄膜中,化合物的原子組分會(huì)由于尺度過小而很容易的產(chǎn)生不均勻特性,SiTiO3薄膜,如果鍍膜過程不科學(xué),那么實(shí)際表面的組分并不是SiTiO3,而可能是其他的比例,鍍的膜并非是想要的膜的化學(xué)成分,這也是真空鍍膜的技術(shù)含量所在。說到這里,很多人都遇到過真空方面的漏氣問題,真空部分出現(xiàn)了問題很麻煩,再加上我們公司沒有檢漏儀,這就要分階段來找。 具體因素也在下面給出。

以上內(nèi)容由艾明坷為您提供,今天我們來分享的是薄膜均勻性概念的相關(guān)內(nèi)容,希望對(duì)您有所幫助!


真空鍍膜機(jī)鍍制薄膜不均勻的解決方法


制的薄膜的均勻性都會(huì)受到某種因素影響。真空狀態(tài)需要抽氣系統(tǒng)來控制的,每個(gè)抽氣口都要同時(shí)開動(dòng)并力度一致,這樣就可以控制好抽氣的均勻性,如果抽氣不均勻,在真空室內(nèi)的壓強(qiáng)就不能均勻了,壓強(qiáng)對(duì)離子的運(yùn)動(dòng)是存在一定的影響的。此外,雖然QCM在低溫下非常穩(wěn)定,但溫度高,它將成為對(duì)溫度很敏感。另外抽氣的時(shí)間也要控制,太短會(huì)造成真空度不夠,但太長(zhǎng)又浪費(fèi)資源,不過有真空計(jì)的存在,要控制好還是不成問題的。

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