本實施方式中，邊緣曝光裝置20架設于基板輸送機構50上，且包括邊緣曝光機21、CXD影像處理器22及驅動裝置23。邊緣曝光機21與基板S的邊緣對齊設置。CXD影像處理器22與邊緣曝光機21連接，例如固定于邊緣曝光機21的前端，用于擷取基板S和邊緣曝光機的邊緣的影像，并通過該影像測定基板S的偏移量。驅動裝置23與邊緣曝光機21和CXD影像處理器22連接，驅動裝置23根據(jù)基板S的偏移量驅動邊緣曝光機20移動，以補償偏移量。該基板的偏移量是指基板S的邊緣相對于邊緣曝光機21的偏移量。


基板S沿圖中X軸方向移動，由CXD影像處理器22擷取視野內(nèi)影像，CCD影像處理器22根據(jù)該影像計算偏移量，即，基板S邊緣Rl與CCD影像處理器22的邊緣R2之間的偏移量Λ y，并將該偏移量的信息提供給驅動裝置23，驅動裝置23根據(jù)接收到的偏移量的信息提供相應的輸出量，帶動與驅動裝置23的輸出端連接的邊緣曝光機21沿Y軸方向移動，與基板S邊緣Rl對齊，從而進行準確的邊緣曝邊。


金屬蝕刻后處理需要注意什么問題:稀有金屬蝕刻后必須除去絲印油墨。一般的耐酸油墨易溶于堿中。將蝕刻板浸入40～60g/L的中，溫度50～80，浸漬數(shù)分鐘即可退去油墨。退除后，假如要求光亮度高，可進行拋光，然后進行染色，染色后為了防止變色及增加耐磨、耐蝕性，能夠噴涂透明光漆。對于一些金屬自身是耐蝕性能好而且不染色的，也能夠不涂透明漆，要根據(jù)實際需要而定。