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發(fā)布時(shí)間:2020-07-31 13:45  
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一六儀器 專(zhuān)業(yè)測(cè)厚儀 多道脈沖分析采集,先進(jìn)EFP算法 X射線(xiàn)熒光鍍層測(cè)厚儀
應(yīng)用于電子元器件,LED和照明,家用電器,通訊,汽車(chē)電子領(lǐng)域.EFP算法結(jié)合精準(zhǔn)定位決了各種大小異形多層多元素的涂鍍層厚度和成分分析的業(yè)界難題
這些方法中前五種是有損檢測(cè),測(cè)量手段繁瑣,速度慢,多適用于抽樣檢驗(yàn)。X射線(xiàn)和β射線(xiàn)法是無(wú)接觸無(wú)損測(cè)量,但裝置復(fù)雜昂貴,測(cè)量范圍較小。因有源,使用者必須遵守射線(xiàn)防護(hù)規(guī)范。X射線(xiàn)法可測(cè)極薄鍍層、雙鍍層、合金鍍層。β射線(xiàn)法適合鍍層和底材原子序號(hào)大于3的鍍層測(cè)量。測(cè)試膜,又名X射線(xiàn)熒光光譜儀樣品薄膜,邁拉膜,麥拉膜,XRF測(cè)試薄膜,XRF樣品膜,樣品薄膜,EDX薄膜,EDX樣品薄膜,ROHS檢測(cè)膜,光譜儀樣品薄膜。電容法僅在薄導(dǎo)電體的絕緣覆層測(cè)厚時(shí)采用。
隨著技術(shù)的日益進(jìn)步,特別是近年來(lái)引入微機(jī)技術(shù)后,采用磁性法和渦流法的測(cè)厚儀向微型、智能、多功能、、實(shí)用化的方向進(jìn)了一步。測(cè)量的分辨率已達(dá)0.1微米,精度可達(dá)到1%,有了大幅度的提高。它適用范圍廣,量程寬、操作簡(jiǎn)便且價(jià)廉,是工業(yè)和科研使用廣泛的測(cè)厚儀器。采用無(wú)損方法既不破壞覆層也不破壞基材,檢測(cè)速度快,能使大量的檢測(cè)工作經(jīng)濟(jì)地進(jìn)行。此外,熒光X射線(xiàn)的強(qiáng)度與相應(yīng)元素的含量有一定的關(guān)系,據(jù)此,可以進(jìn)行元素定量分析。
X-RAY測(cè)厚儀特點(diǎn)
1,價(jià)格高,機(jī)種不同,價(jià)格在10萬(wàn)~100萬(wàn)左右,可測(cè)試P(磷)~U(鈾),并且支持Rohs及元素分析功能等。
2,無(wú)損檢測(cè),Windows操作系統(tǒng),使用簡(jiǎn)便。操作快速,能適應(yīng)多類(lèi)鍍層,大量檢測(cè),但體積較大,計(jì)算機(jī)除外約100000cm2,50000g左右。
3,測(cè)量厚度范圍較廣,
0.002um~100um左右,能測(cè)試5層以上膜厚,并且可以測(cè)量合金鍍層,也可分析鍍層元素和含量比。
4,測(cè)量精度高,1%左右,分辨率高,0.001um左右。
5,測(cè)頭的面積較小,對(duì)需測(cè)的樣品要求不高:0.1mmψ以下也可測(cè)量,基材厚度無(wú)要求。
6,可編程XYZ測(cè)量臺(tái)及大移動(dòng)范圍。
江蘇一六儀器有限公司是一家專(zhuān)注于光譜分析儀器研發(fā)、生產(chǎn)、銷(xiāo)售的高新技術(shù)企業(yè)。
X射線(xiàn)熒光光譜儀是基于X射線(xiàn)熒光光譜法而進(jìn)行分析的一種常見(jiàn)分析儀器。通常認(rèn)為X區(qū)域0.01-10nm之間的一段電磁波譜,短波邊以伽馬射線(xiàn)為界,長(zhǎng)波邊與真空紫外線(xiàn)區(qū)域的實(shí)際界線(xiàn)。
X射線(xiàn)熒光光譜儀特點(diǎn)
1、一種真正意義上 的無(wú)損分析,在分過(guò)程中不會(huì)改變樣品的化學(xué)形態(tài)。具有不污染、節(jié)能低耗等優(yōu)點(diǎn)。
2、分析速度快,無(wú)須進(jìn)行樣品預(yù)處理,升值無(wú)須樣品的制備,X射線(xiàn)熒光光譜分析可以篩選大量的樣品。一般情況下檢測(cè)在3分鐘以下。
3、自動(dòng)化程度高。
4、可以同時(shí)測(cè)定樣品中的多種元素。
5、隨著分析技術(shù)的發(fā)展,儀器可以滿(mǎn)足很多行業(yè)的需求。如:地質(zhì)礦產(chǎn),冶金、化工、材料、石油勘探、考古、合金、土壤、鍍層等諸多行業(yè)。
6、樣品的形態(tài)廣。
7、X射線(xiàn)熒光光譜儀分為波長(zhǎng)色散譜儀和能量色散譜儀可以滿(mǎn)足各行個(gè)元素的需求。
8、X射線(xiàn)熒光光譜儀中的能量色散儀是低分辨率光譜儀已是在線(xiàn)分析的選擇儀器之一。


江蘇一六儀器 X射線(xiàn)熒光鍍層測(cè)厚儀 元素分析范圍:氯(CI)- 鈾(U)
厚度分析范圍:各種元素及有機(jī)物
x射線(xiàn)熒光鍍層測(cè)厚儀(國(guó)產(chǎn))是一款針對(duì)金屬電鍍層(鍍金、鍍鎳、鍍鋅、鍍錫等)厚度的,通過(guò)X熒光照射出產(chǎn)品,每個(gè)元素反射出的二次特征譜線(xiàn),通過(guò)檢測(cè)器分析出強(qiáng)度來(lái)金屬鍍層的厚度,完全達(dá)到無(wú)損、快速分析的效果,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于電子電器、五金工具、電鍍企業(yè)(鋁平行管、電鍍五金),連接器企業(yè)、開(kāi)關(guān)企業(yè)等。可靠性高:由于測(cè)試過(guò)程無(wú)人為干擾因素,儀器自身分析精度、重復(fù)性與穩(wěn)定性很高。
x射線(xiàn)熒光鍍層測(cè)厚儀性能優(yōu)勢(shì)
采用高度定位激光,可自動(dòng)定位測(cè)試高度
定位激光確定定位光斑,確保測(cè)試點(diǎn)與光斑對(duì)齊
滿(mǎn)足各種不同厚度樣品以及不規(guī)則表面樣品的測(cè)試需求
高分辨率探頭使分析結(jié)果更加精準(zhǔn)
良好的射線(xiàn)屏蔽作用
測(cè)試口高度敏感性傳感器保護(hù)
minimum φ0.1mm的小孔準(zhǔn)直器可以滿(mǎn)足微小測(cè)試點(diǎn)的需求
移動(dòng)平臺(tái)可定位測(cè)試點(diǎn),重復(fù)定位精度小于0.005mm
鼠標(biāo)可控制移動(dòng)平臺(tái),鼠標(biāo)點(diǎn)擊的位置就是被測(cè)點(diǎn)x射線(xiàn)熒光鍍層測(cè)厚儀技術(shù)參數(shù)
一次可同時(shí)分析多達(dá)五層鍍層
度適應(yīng)范圍為15℃至30℃
鍍層厚度一般在50μm以?xún)?nèi)(每種材料有所不同)
分析含量一般為2ppm到99.9%


