PVD技術制備的鍍層的穩(wěn)定性好、膜基結合力高、致密度高,在冷熱交變環(huán)境下的防腐能力較強;另外,在PVD施鍍過程中,鍍層厚度受磁體工件邊角的影響遠低于電鍍和化學鍍,且制備過程不存在污染問題。

1、鍍膜技術在裝飾品方面的應用

隨著經濟的發(fā)展和生活水平的提高，人們喜歡將手表殼、表帶、服飾、燈飾、眼鏡架、室內外裝飾件、五金箱包、手機殼、手機視屏、衛(wèi)生潔具、食品包裝等裝飾品精飾得五彩繽紛。

鍍膜技術在建筑玻璃和汽車玻璃上的應用

　　建筑玻璃有透光和隔熱兩個基本功能。普通玻璃能透過絕大部分太陽光輻射能量，這對采光和吸收太陽光線的能量十分有利。而對于空間紅外輻射，普通玻璃雖能阻止室內的熱量直接透過室外，但熱量被玻璃吸收后的二次散熱也會造成很大的損失。隨著經濟的發(fā)展，普通玻璃已越來越不能滿足人們的要求。而陽光控制膜和低輻射膜正好能彌補了普通玻璃在這一方面的不足。膜厚決定于蒸發(fā)專源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。陽光控制膜可以滿足低緯度地區(qū)降低室內溫度的要求；而低輻射膜則能滿足高緯度地區(qū)充分接受太陽輻射能量和阻止室內熱量外流的要求。

蒸發(fā)式真空鍍膜機的工作原理：通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面，稱為蒸發(fā)鍍膜。這種方法早由M.法拉第于1857年提出，現代已成為常用鍍膜技術之知一。 蒸發(fā)物質如金屬、化合物等置于坩堝內或掛在熱絲上作為蒸發(fā)源，待鍍工件，如金屬、陶瓷、塑料等基片置于坩堝前方。待系統(tǒng)抽至高真空后，加熱坩堝使其中的物質蒸發(fā)。蒸發(fā)物質的原子或分子道以冷凝方式沉積在基片表面。薄膜厚度可由數百埃至數微米。膜厚決定于蒸發(fā)專源的蒸發(fā)速率和時間（或決定于裝料量），并與源和基片的距離有關。真空鍍膜設備應用十分廣泛，如今在我們的生活中到處可見，是必不可少的一項技術。對于大面積鍍膜，常采用旋轉基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的屬距離應小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學作用。蒸氣分子平均動能約為0.1～0.2電子伏。簡言之，蒸發(fā)式真空鍍膜機的工作原理就是真空室內利用電阻加熱法，把緊緊貼在電阻絲上面的金屬絲熔融汽化，汽化了的金屬分子沉積于基片上，而獲得光滑反射率的膜層，達到裝飾美化物品表面的目的。

真空鍍膜機-操作步驟

一、電控柜的操作;

開維持泵、真空計電源，真空計檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進入下一步操作。約需5分鐘。 開機械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動，真空計開關換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分鐘。

觀察渦輪分子泵讀數到達250以后，關予抽，開前機和高閥繼續(xù)抽真空，抽真空到達一定程度后才能開右邊的高真空表頭，觀察真空度。真空到達2×10-3以后才能開電子槍電源。