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特種燈具反光杯鍍膜價(jià)格來(lái)電咨詢(xún),佛山市錦城鍍膜

發(fā)布時(shí)間:2021-01-06 21:21  

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真空鍍膜之磁控濺射鍍膜 :磁控濺射的基本原理就是以磁場(chǎng)改變電子運(yùn)動(dòng)方向, 束縛和延長(zhǎng)電子的運(yùn)動(dòng)軌跡, 從而提高了電子對(duì)工作氣體的電離幾率和有效地利用了電子的能量。因此在形成高密度等離子體的異常輝光放電中正離子對(duì)靶材轟擊所引起的靶材濺射更加有效,同時(shí)受正交電磁場(chǎng)的束縛的電子只能在其能量將要耗盡時(shí)才能沉積在基片上。這就是磁控濺射具有 “低溫”、“高速”兩大特點(diǎn)的機(jī)理。用這種工藝形成的鍍層,與零件表面既無(wú)牢固的化學(xué)結(jié)合,有無(wú)擴(kuò)散連接,附著能很差,有時(shí)就像桌面上落的灰塵一樣,用手一摸也會(huì)擦掉。

鍍膜技術(shù)也叫薄膜技術(shù),是在真空條件下采用物理或化學(xué)方法,使物體表面獲得所需的膜體。鍍膜技術(shù)是初起源于20世紀(jì)30年代,直到70年代后期才得到較大發(fā)展的一種技術(shù)。在濺射粒子中,中性的靶原子(或分子)沉積在基片上形成薄膜,二次電子在加速飛向基片時(shí)受磁場(chǎng)的洛侖茲力作用以擺線(xiàn)和螺旋線(xiàn)狀的復(fù)合形式在靶表面作圓周運(yùn)動(dòng)。目前已被廣泛應(yīng)用于耐酸、耐蝕、耐熱、表面硬化、裝飾、潤(rùn)滑、光電通訊、電子集成、能源等領(lǐng)域.


物理q相沉積法真空鍍膜技術(shù)(由于這種方法基本上都是處于真空環(huán)境下進(jìn)行的,因此稱(chēng)它們?yōu)檎婵斟兡ぜ夹g(shù))。真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技術(shù),是表面工程技術(shù)領(lǐng)域的重要組成部分。

真空鍍膜技術(shù)是使置待鍍金屬和被鍍塑料制品位于真空室內(nèi),采用一定方法加熱待鍍材料,使金屬蒸發(fā)或升華,金屬蒸汽遇到冷的塑料制品表面凝聚成金屬薄膜。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段,但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。

有機(jī)鍍膜與無(wú)機(jī)鍍膜的根本區(qū)別


目前市場(chǎng)上被稱(chēng)作玻璃系鍍膜或石英結(jié)晶鍍膜的產(chǎn)品幾乎都是以含j基的硅氧烷樹(shù)脂(methylsiloxane)為主要成分的鍍膜,鍍膜硬化后(有些鍍膜甚至無(wú)法達(dá)到完全硬化),成份中含有大量j基團(tuán)(CH3),實(shí)質(zhì)為有機(jī)硅樹(shù)脂。這種鍍膜劑在使用中,j基團(tuán)會(huì)被紫外線(xiàn)分解,附著在上面的硅元素也隨之脫落。這類(lèi)鍍膜劑所標(biāo)稱(chēng)的耐久性也僅相當(dāng)于樹(shù)脂涂層的耐久性,根本無(wú)法與不會(huì)學(xué)化的純無(wú)機(jī)糖瞄相捏并論。鍍膜工藝流程中工藝參數(shù)的控制和對(duì)膜層沉積的影響:金屬過(guò)渡層:過(guò)渡層能有效的減小膜-基或不同鍍層間因材料熱膨脹系數(shù)等物理性能不同而形成的應(yīng)力,提高結(jié)合力,但是金屬過(guò)渡層太厚容易引起基體軟化,結(jié)合力反而會(huì)變差。