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發(fā)布時間:2021-08-13 18:28  
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真空法這種方法是在高真空狀態(tài)下令材料氣化或離子化沉積于工件表面而形成鍍層的過程。其主要方法是。(一)物理氣相沉積(PVD)在真空條件下,將金屬氣化成原子或分子,或者使其離子化成離子,直接沉積到工件表面,形成涂層的過程,稱為物理氣相沉積,其沉積粒子束來源于非化學(xué)因素,如蒸發(fā)鍍?yōu)R射鍍、離子鍍等。(二)離子注入高電壓下將不同離子注入工件表面令其表面改性的過程,稱為離子注入,如注硼等。(三)化學(xué)氣相沉積(CVD)低壓(有時也在常壓)下,氣態(tài)物質(zhì)在工件表面因化學(xué)反應(yīng)而生成固態(tài)沉積層的過程,稱為化學(xué)氣相鍍,如氣相沉積氧化硅、氮化硅等。
其它方法主要是機(jī)械的、化學(xué)的、電化學(xué)的、物理的方法。其中的主要方法是:(一)涂裝閑噴涂或刷涂方法,將涂料(有機(jī)或無機(jī))涂覆于工件表面而形成涂層的過程,稱為涂裝,如噴漆、刷漆等。(二)沖擊鍍用機(jī)械沖擊作用在工件表面形成涂覆層的過程,稱為沖擊鍍,如沖擊鍍鋅等。(三)激光表面處理用激光對工件表面照射,令其結(jié)構(gòu)改變的過程,稱為激光表面處理,如激光淬火、激光重熔等。(四)超硬膜技術(shù)以物理或化學(xué)方法在工件表面制備超硬膜的技術(shù),稱為超硬膜技術(shù)。如金剛石薄膜,立方氮化硼薄膜等。