真空鍍膜應(yīng)用是真空應(yīng)用中的一個(gè)大分支，在光學(xué)、電子學(xué)、理化儀器、包裝、機(jī)械以及表面處理技術(shù)等眾多方面有著十分廣泛的應(yīng)用。

、真空鍍膜加工的表面硬度高 化學(xué)鍍鎳層的硬度一般在HV300-600，高的甚至可達(dá)到HV700以上，而電鍍鎳的硬度僅為 HV160-180，顯然化學(xué)鍍鎳層的硬度要遠(yuǎn)大于電鍍層的硬度.而其化學(xué)鍍鎳層經(jīng)過一定的熱處理后，其硬度還可以提高，可達(dá)HV900以上。

真空鍍膜應(yīng)用，簡單地理解就是在真空環(huán)境下，利用蒸鍍、濺射以及隨后凝結(jié)的辦法，在金屬、玻璃、陶瓷、半導(dǎo)體以及塑料件等物體上鍍上金屬薄膜或者是覆蓋層。相對(duì)于傳統(tǒng)鍍膜方式，真空鍍膜應(yīng)用屬于一種干式鍍膜。

真空鍍膜則是相對(duì)于上述的濕式鍍膜方法而發(fā)展起來的一種新型鍍膜技術(shù)，通常稱為干式鍍膜技術(shù)。 真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R射，使其在被涂覆的物體（稱基板、基片或基體）上凝固并沉積的方法，稱為真空鍍膜。

真空PVD鍍膜涂層工藝基本步驟

前處理工藝

褪膜、噴砂、拋光、鈍化、清洗、裝夾

鍍膜工藝

抽真空、加熱烘烤、漏率測(cè)試、轟擊清洗、鍍膜、冷卻出爐

后處理工藝

清洗：確保鍍膜前產(chǎn)品表面的清潔，越新鮮的表面，越能保證鍍膜質(zhì)量;

抽真空：將真空室內(nèi)的殘余氣體抽走

加熱烘烤：爐體和工件同時(shí)加熱，加速殘余氣體的釋放

壓升率測(cè)試：測(cè)試爐體的漏氣率和放氣率

轟擊清洗：去除工件表面的雜志，露出新鮮表面

鍍膜：沉積膜層

冷卻：避免工件氧化變色