鍍層漂洗水是電鍍作業(yè)中重金屬污染的主要來源

鍍層漂洗水鍍層漂洗水是電鍍作業(yè)中重金屬污染的主要來源。電鍍液的主要成分是金屬鹽和絡(luò)合劑，包括各種金屬的硫酸鹽、氯化物、氟硼酸鹽等以及、氯化銨、氨三、焦磷酸鹽、有機(jī)等。除此之外，為改善鍍層性質(zhì)，往往還在鍍液中添加某些有機(jī)化合物，如作為整平劑的香豆素、、，作為光亮劑的有糖精、香草醛、芐叉、對磺酰胺、苯磺酸等。因此鍍件漂洗廢水中除含有重金屬離子外，還含有少量的有機(jī)物。漂洗廢水的排放量以及重金屬離子的種類與濃度隨鍍件的物理形狀、電鍍液的配方、漂洗方法以及電鍍操作管理水平等諸多因素而變。特別是漂洗工藝對廢水中重金屬的濃度影響很大，直接影響到資源的回收和廢水的處理效果。

出光速度慢、整平性不理想、低電流密度區(qū)光亮性差或漏鍍、高電流

但其不足之處是:出光速度慢、整平性不理想、低電流密度區(qū)光亮性差或漏鍍、高電流密度區(qū)易發(fā)霧。只適用于要求不高的簡單工件,復(fù)雜件則難達(dá)要求。出光速度慢帶來生產(chǎn)效率低、鎳耗較大等不利情況。第四代鍍鎳初級光亮劑一般由3～5種中間體復(fù)配而成,其中有些組分完全擺脫了炔屬體系。即使采用炔屬類也不大用,而是的加成物。直接用代替,光亮整平性好得多,但鍍層脆性很大,故不宜直接加入。第四代鍍鎳初級光亮劑為柔軟劑,實(shí)際上也是由幾種中間體復(fù)配而成,產(chǎn)品差異很大。

真空鍍可以分為真空蒸鍍、真空離子鍍

真空鍍，就是在真空條件下，通過蒸餾或?yàn)R射等方式在金屬表面沉積各種金屬和非金屬薄膜的表面處理工藝。通過真空鍍的方式可以得到非常薄的表面鍍層，同時具有速度快、附著力好、污染物少等優(yōu)點(diǎn)。按照工藝不同，真空鍍可以分為真空蒸鍍、真空濺射鍍、真空離子鍍。電鍍是一種電化學(xué)和氧化還原的過程。以鍍鎳為例：將金屬制件浸在金屬鹽（NiSO4）的溶液中作為陰極，金屬鎳板作為陽極，接通直流電源后再制件上就會沉積出金屬鍍鎳層。