?真空鍍膜加工金屬真空鍍膜加工廠(chǎng)

　真空鍍膜加工已有200年的歷史。在19世紀(jì)可以說(shuō)一直是處于探索和預(yù)研階段。探索者的艱辛在此期間得到充分體現(xiàn)。1805年, 開(kāi)始研究接觸角與表面能的關(guān)系(Young)。1817年, 透鏡上形成減反射膜(Fraunhofer)。1839年, 開(kāi)始研究電弧蒸發(fā)(Hare)。開(kāi)始研究真空濺射鍍膜(Grove；Pulker)。1857年, 在氮?dú)庵姓舭l(fā)金屬絲形成薄膜(Faraday；Conn)。 1874年, 報(bào)道制成等離子體聚合物(Dewilde；Thenard)。1877年,薄膜的真空濺射沉積研究成功(Wright)。1880年, 碳?xì)浠衔餁庀酂峤?Sawyer；Mann)。1887年, 薄膜的真空蒸發(fā)(坩堝) (Nahrwold；Pohl；Pringsheim)。開(kāi)始研制形成減反射膜的化學(xué)工藝。研究成功四氯化鎢的氫還原法(CVD)； 膜厚的光學(xué)干涉測(cè)量法(Wiener)。

真空鍍膜

②光密度法。光密度(OD)定義為材料遮光能力的表征。光密度沒(méi)有量綱單位，是一個(gè)對(duì)數(shù)值，通常僅對(duì)鍍鋁薄膜和珠光膜進(jìn)行光密度測(cè)量。 光密度是入射光與透射光比值的對(duì)數(shù)或者說(shuō)是光線(xiàn)透過(guò)率倒數(shù)的對(duì)數(shù)。

計(jì)算公式為： OD=lg（入射光／透射光）或OD=lg（1／透光率） 通常鍍鋁膜的光密度值為l～3(即光線(xiàn)透過(guò)率為0.10/0~10%)，數(shù)值越大鍍鋁層越厚。 光密度OD值、方阻值對(duì)應(yīng)的鋁層厚度如表6-7所示。 表6-70D值、方阻值和鋁層厚度對(duì)照表 光密度 OD值 電阻值 Ohm/Square方阻值 鋁層厚度 A 1.6 3 320 1.8 2.7 360 2.0 2.35 400 2.2 2.05 440 2.4 1.8 480 2.6 1.55 520 2.8 1.3 560 3.0 1.0 600

真空鍍膜加工與電鍍?nèi)莾苫厥聝?。真空鍍膜加工是把物體放入真空室里，在真空狀態(tài)下把所要鍍的金屬加熱蒸發(fā)，然后被鍍物體在里面轉(zhuǎn)動(dòng)把金屬顆粒吸附在被鍍物體表面，鍍后為了不使金屬顆粒氧化在表面再?lài)娡该髅嬗蛷亩黾咏Y(jié)合力和隔離空氣。一般來(lái)說(shuō)真空鍍膜加工不能鍍的材料是那些表面柔軟易變形的材料，還有就是不易干燥的材料。電鍍一般是ABS塑料才可以處理成導(dǎo)電體再電鍍。

真空鍍膜加工使用過(guò)程中需要使用水嗎？會(huì)產(chǎn)生什么廢氣

真空鍍膜加工腔體里面是不允許有水的，否則就抽不了真空，不過(guò)鍍膜機(jī)是需要有冷卻水循環(huán)冷卻，至于廢氣還是要分抽真空鍍膜腔體內(nèi)的空氣，還是指抽高真空后真空腔體內(nèi)溢出的水蒸氣和油氣分子。