優(yōu)點：

1、化學拋光設備簡單，不需要什么特殊設備，只需要一個盛拋光液的玻璃杯和夾持試樣的夾子就可以了。

2、如果用細薄磨料片切割的試樣，切割后不需要砂紙磨光，即可直接拋光。

3、有些非導體材料也可以用化學拋光，非導體嵌鑲的試樣也可以直接拋光。

4、化學拋光也可以處理形狀比較復雜的零件。

化學拋光主要用不銹鋼、銅及銅合金等。

化學拋光對鋼鐵零件，尤其是低碳鋼有較好的拋光效果，所以對于一些機械拋光時較為困難的鋼鐵零件，可采用化學拋光。

為了進行化學拋光，必須使零件表面的凸部比凹部優(yōu)先溶解，因此應將化學拋光的作用分為兩個階段來認識。一階段是化學拋光時金屬表面現(xiàn)象的幾何凸凹的整平，去除較粗糙的表面不平度，獲得平均為數(shù)微米到數(shù)十微米的光潔度；第二階段是晶界附近的結晶不完整部分的平滑化，去除微小的不平，在0.1～0.01μm，相當于光波長的范圍。可將階段稱為宏觀拋光或平滑化，把第二階段稱為微觀拋光或光澤化。

化學拋光是靠化學試劑的化學浸蝕作用對樣品表面凹凸不平區(qū)域的選擇性溶解作用消除磨痕、浸蝕整平的一種方法?；瘜W拋光設備簡單，能夠處理細管、帶有深孔及形狀復雜的零件，生產(chǎn)?；瘜W拋光可作為電鍍預處理工序，也可在拋光后輔助以必要的防護措施直接使用。

化學拋光同機械拋光相比，是一種更為先進、更為科學的拋光方法，其特點為：可用于機械拋光甚感困難或無法加工的制件。如形狀、結構比較復雜，具有不規(guī)則凹、凸結構的制件，狹小縫隙或孔洞的內(nèi)表面，精細薄小的制件等。

化學拋光是在不供電情況下產(chǎn)生拋光效果，其拋光原理與利用電流作用的電解拋光在本質(zhì)上沒有太大差別。化學拋光效果一般要比電解拋光效果差，在化學拋光中，由于材料的質(zhì)量不均勻，會引起局部電位高低不一，產(chǎn)生局部陰陽極區(qū)，形成局部短路的微電池，使陽極發(fā)生局部溶解。

化學拋光主要用不銹鋼、銅及銅合金等?；瘜W拋光對鋼鐵零件，尤其是低碳鋼有較好的拋光效果，所以對于一些機械拋光時較為困難的鋼鐵零件，可采用化學拋光。

 化學拋光，一般使用或磷酸等氧化劑溶液，在一定的條件下，使工件表面氧化，此氧化層又能逐漸溶人溶液，表面微凸起處氧化較快而較多,而微凹處則被氧化慢而少