平面研磨機和平面拋光機的差別

平面研磨機和平面拋光機的差別論 平面研磨機和平面拋光機都是表面處理行業(yè)常用到的設備，雖然這兩者都是適用于平面的工件，但還是有很多不同的，接下來就從以下幾個方面來闡述它們之間的差別。 首先是用途上的差別，平面研磨機主要用于LED藍寶石襯底、光學玻璃晶片、石英晶片、硅片、諸片、模具、導光板、光扦接頭等各種材料的單面研磨、拋光。而平面拋光機是處理平面工件的塌邊現象，平滑，斑點，祛除工件表面的劃痕，完成超精密加工使工件表面光滑以達到鏡面效果。 其次是工作原理的差別，平面研磨機為精密研磨拋光設備，被磨、拋材料放于平整的研磨盤上，研磨盤逆時鐘轉動，修正輪帶動工件自轉，重力加壓或其它方式對工件施壓，工件與研磨盤作相對運轉磨擦，來達到研磨拋光目的。而平面拋光機是通過發(fā)動機帶動磨盤轉動，并和在磨盤上自轉的工件產生摩擦，運用摩擦產生切削力，將工件表面凹凸不平的地方磨平，來達到拋光目的。 很多對平面研磨機和平面拋光機分不清的朋友看完這篇文章應該有所了解，明白這兩者的區(qū)別有哪些。平面研磨機和平面拋光機是表面處理的美化師，為我們呈現眾多不同的表面美觀的工件。

精密雙面研磨機的特色介紹

精密雙面研磨機的特色介紹 精密雙面研磨機超精研加工時，工件與較粗糙的工件表面接觸，接觸面積較小，壓強較大，表面較光滑，接觸面的逐漸增大，逐漸形成潤滑油膜，后停止切削，起到高拋光的作用。 1、工件表面加工過程中，由于速度低、發(fā)熱少，不變形，質量高； 2、良好的潤滑油存儲條件，提高工件表面的耐磨性； 3、工件的反復振動，磨料的切削方法隨之不斷改變，磨料易研磨，切削； 4、較復雜的磨粒運動軌跡，工件表面在從研磨到拋光的過渡中達到較高的光潔度。

平面研磨機需要的設備有哪些

平面研磨機需要的設備有哪些 研磨機主機采用調速電機驅動，配置大功率減速系統(tǒng)，軟啟動、軟停止，運轉平穩(wěn)。通過上、下研磨盤、太陽輪、游星輪在加工時形成四個方向、速度相互協(xié)調的研磨運動，達到上下表面同時研磨的運作。下研磨盤可升降，方便工件裝卸。氣動太陽輪變向裝置，控制工件兩面研磨精度和速度。隨機配有修正輪，用于修正上下研磨盤的平行誤差。 1、磨盤：如遇到較軟的工件材料時，比如說研磨光學玻璃這種材質的工件，我們可以采用半軟質的磨盤（比如錫盤）或者軟質的磨盤（比如瀝青盤）等，使用這類研磨盤的缺點是磨盤比較容易保持平面度，所以會對加工工件的平面度產生一定的影響，而優(yōu)點是研磨出的工件表面變質層較小，且表面粗糙度也小。要想獲取較高的研磨表面質量，需選用正確且適合的磨盤。 2、磨粒：它主要是按照硬度分為兩類（硬磨粒和軟磨粒），選用研磨時用到的磨粒具備功能體現為形狀、尺寸均勻一致；能適當的破碎，使切刃鋒利；磨粒的熔點要比工件熔點高；磨粒在加工也中易分散等。 3、加工液：研磨拋光加工液通常由基液（水性或油性）、磨粒、添加劑三部分組成，作用是供給磨粒、排屑、冷卻和潤滑。對加工液的要求如下： 1）能夠有效散熱，以免研具和工件表面熱變形； 2）不可污染工件的； 3）粘性低的，可提高磨粒流動性； 4）化學物理性能穩(wěn)定的，不會因放置或者溫升而分解變質； 5）能夠較好地分散磨粒的。 在平面研磨機研磨拋光時，會伴有發(fā)熱現象，除了工件和研具因溫度上升而發(fā)生形變難以進行高精度研磨外，在局部的磨粒作用點上也會產生相當高的溫度，使加工變質層深度增加。而適當地供給加工液，可以有效保證研具有良好的耐磨性工件的形狀精度及較小的加工變質層。添加劑的作用是放置或延緩磨料沉淀，并對工件發(fā)揮化學作用以提高研磨拋光加工效率和質量。