什么是平面研磨機(jī)研磨盤的目數(shù)

當(dāng)您使用平面研磨機(jī)對(duì)各種平面工件進(jìn)行研磨時(shí)，會(huì)常常聽到一個(gè)詞就是研磨盤的目數(shù)，那么目數(shù)到底是什么含義呢？

研磨盤的目數(shù)，代表用于制作研磨盤顆粒（磨粒粒徑對(duì)藍(lán)寶石研磨機(jī)研磨性能的影響因素）大小，目數(shù)數(shù)字以顆粒直徑來(lái)表達(dá)。也就代表研磨盤的研磨力度。目數(shù)與研磨力度成反比，目數(shù)越大，研磨盤力度更輕，目數(shù)越小，研磨盤力度越重。

平面研磨機(jī)在確定研磨工藝的時(shí)候，研磨盤目數(shù)是一個(gè)首要的參數(shù)。目數(shù)過(guò)大或過(guò)小的研磨盤，對(duì)于工件的研磨都不合適，無(wú)法加工到理想的表面精度。

平面研磨機(jī)研磨盤的目數(shù)要與盤的材質(zhì)一起使用。比如銅盤**目與錫盤**目就是材質(zhì)不同粗細(xì)不同的研磨盤，所能加工的表面精度就都不同。其中材質(zhì)代表研磨盤的硬度，目數(shù)代表加工力度。

通過(guò)對(duì)平面研磨機(jī)研磨盤目數(shù)的了解，您是否了解了一些研磨盤與加工精度的關(guān)系，其實(shí)除了研磨盤的材質(zhì)及目數(shù)，與表面精度加工效率相關(guān)的還有拋光液（分散性和懸浮性在拋光液中的重要性）速度、壓力、時(shí)間等相關(guān)，您若有興趣，請(qǐng)保持對(duì)方達(dá)平面研磨機(jī)、平面拋光設(shè)備、雙面研磨機(jī)等相關(guān)信息的關(guān)注。產(chǎn)生磨削作用的磨料顆粒有兩種來(lái)源，一種來(lái)自于不斷外加(常稱為游離磨料)。

圓盤式研磨機(jī)的分類

圓盤式研磨機(jī)分單盤和雙盤兩種，以雙盤研磨機(jī)應(yīng)用為普通。在雙盤研磨機(jī)上，多個(gè)工件同時(shí)放入位于上、下研磨盤之間的保持架內(nèi)，保持架和工件由偏心或行星機(jī)構(gòu)帶動(dòng)作平面平行運(yùn)動(dòng)。下研磨盤旋轉(zhuǎn)，與之平行的上研磨盤可以不轉(zhuǎn)，或與下研磨盤反向旋轉(zhuǎn)，并可上下移動(dòng)以壓緊工件（壓力可調(diào)）。此外，上研磨盤還可隨搖臂繞立柱轉(zhuǎn)動(dòng)一角度，以便裝卸工件。雙盤研磨機(jī)主要用于加工兩平行面、一個(gè)平面(需增加壓緊工件的附件)、外圓柱面和球面（采用帶V形槽的研磨盤）等。加工外圓柱面時(shí),因工件既要滑動(dòng)又要滾動(dòng)，須合理選擇保持架孔槽型式和排列角度。單盤研磨機(jī)只有一個(gè)下研磨盤，用于研磨工件的下平面，可使形狀和尺寸各異的工件同盤加工，研磨精度較高。有些研磨機(jī)還帶有能在研磨過(guò)程中自動(dòng)校正研磨盤的機(jī)構(gòu)。按照研磨盤尺寸，可分為:380研磨機(jī)，460研磨機(jī)，610研磨機(jī)，910研磨機(jī)等。

平面拋光機(jī)上面的薄膜做什么用？

北京凱碩恒盛科技有限公司主營(yíng)項(xiàng)目：雙面研磨機(jī)，內(nèi)圓磨，外圓磨，減薄機(jī)，軸承磨加設(shè)備，汽車零部件磨床，砂輪，刀具等

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隨著平面拋光機(jī)的拋光技術(shù)的發(fā)展，對(duì)工件的表面光潔度處理也很。自動(dòng)拋光機(jī)進(jìn)行拋光的時(shí)候，如果其工件凹陷的部位不溶解的話，那么其達(dá)到的工件的表面平滑的能力就更加的理想，但是實(shí)際上，凹陷處只是比工件的凸起的地方所發(fā)費(fèi)的時(shí)間要短，其速度要快而已。如果研磨盤分開太晚，沒有達(dá)到適當(dāng)?shù)慕饘偃コ剩踔粮愕氖?，工件表面可能?huì)被損壞。

因?yàn)?strong>平面拋光機(jī)上面的薄膜可以去除工件表面上凸起處的小鋸齒形面，所以自動(dòng)拋光機(jī)拋光之后表面就會(huì)顯得很光滑。當(dāng)工件上的薄膜鈍化的厚度與小鋸齒差不多被去掉的時(shí)候，所研磨拋光的速度就需要慢慢的減緩。

在平面拋光機(jī)拋光過(guò)程中，工件的表面變平的同時(shí)，總是會(huì)改變其工件的尺寸，在這里使工件變平的高度，與所溶掉的工件的厚度的比例這就是表示拋光的效率，其金屬的溶解的速度主要決定于平面自動(dòng)拋光機(jī)拋光的條件，但是這是可以提前確定的。

要達(dá)到工件的表面光潔度主要是決定于工件表面的狀態(tài)以及自動(dòng)拋光機(jī)拋光所持續(xù)的時(shí)間，表面的拋光會(huì)提高很多，其光潔度個(gè)別情況下提高還要多。

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